[发明专利]一种陶瓷抛光防滑蜡、细腻面的防滑防污的全抛釉瓷质砖及其制备方法

权利要求书

1.细腻面的防滑防污全抛釉瓷质砖的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：

（1）制作坯体；

（2）在坯体上布施面釉；

（3）在布施面釉后的坯体表面打印喷墨设计图案；

（4）在打印喷墨设计图案后的坯体表面丝网或辊筒印刷布施保护釉；所述保护釉的化学组成和抛釉相同；所述保护釉的化学成分包括：以质量百分比计，SiO₂：51.0～57.0%、Al₂O₃：11.0～12.5%、 Fe₂O₃：0～0.4%、TiO₂：0～0.2%、CaO：5.6～9.8%、MgO：2.6～3.9%、K₂O：2.2～4.0%、Na₂O：2.6～4.5%、BaO：3.1～6.6%，ZnO：3.6～5.9%，烧失：6.0～8.6%；所述保护釉的比重为 1.33～1.45，重量为60～100g/m²；

（5）在布施保护釉后的坯体表面采用淋釉方式布施抛釉；所述抛釉的矿物组成包括：以质量百分比计，钾长石18～26%、钠长石20～30%、高岭土4～7%、石英5～10%、煅烧高岭土7～10%、烧滑石8-12%、方解石6-10%、硅灰石5-8%、碳酸钡4～8%、氧化锌4～6.5%；所述抛釉的比重为 1.82～1.88，施釉量为 550～650g/m²；

（6）烧成；

（7）抛光；

（8）在抛光后的坯体表面依次打磨水性防污蜡和油性防污蜡，冲洗，烘干；所述水性防污蜡在陶瓷砖表面的施加量为50～80g/m²，打磨时间为 20～35 秒；所述油性防污蜡在陶瓷砖表面的施加量为8～15g/m²，打磨时间为 4～8 秒；

（9）在烘干后的坯体表面打磨陶瓷抛光防滑蜡；所述陶瓷抛光防滑蜡的原料组成包括：以质量百分比计，氟化铵溶液10～20%、氯化钠10～20%、表面活性剂10～20%、果酸活性肽15～30%、水30～50%；所述陶瓷抛光防滑蜡在陶瓷砖表面的施加量为40～65g/m²，打磨时间为20～40秒；

（10）磨边，打包分级；

所述瓷质砖的干法静摩擦系数在0.66以上，湿法静摩擦系数在0.6以上，耐污染性达5级。

2.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，所述面釉的化学组成包括：以质量百分比计，SiO2：50～60%、Al2O3：25～33%、K2O：5～7%、Na2O：2～3%、Fe2O3：0.2～0.45%、TiO2：0～0.2%、CaO：0.5～1.0%、MgO：0.15～0.45%、烧失：4～6%；所述面釉的比重为 1.42～1.46，施加量为 700～800 g/m²。

3.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，所述抛釉的化学组成包括：以质量百分比计，SiO₂：51.0～57.0%、Al₂O₃：11.0～12.5%、Fe₂O₃：0～0.4%、TiO₂：0～0.2%、CaO：5.6～9.8%、MgO：2.6～3.9%、K₂O：2.2～4.0%、Na₂O：2.6～4.5%、BaO：3.1～6.6%、ZnO：3.6～5.9%、烧失：6.0～8.6%。

4.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，所述水性防污蜡的原料组成包括：以质量百分比计，纳米二氧化硅颗粒：40～60%、防冻型溶剂0.3～1%、表面活性剂0.5～2%、碱性腐蚀剂0.6～1.5%、有机硅烷偶联剂0.5～1%、水36～56%。

5.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，所述油性防污蜡的原料组成包括：以质量百分比计，纳米二氧化硅颗粒30～40%、防冻型溶剂0.3～1%、表面活性剂0.3～1%、有机硅烷偶联剂0.5～1%、二甲基硅油15～25%、含氢硅油42～55%。

6.权利要求1～5中任一项所述的细腻面的防滑防污全抛釉瓷质砖制备方法获得的防滑防污全抛釉瓷质砖。