[发明专利]基于自由曲面基底相位元件的离轴三反成像系统有效
申请号: | 201911215627.8 | 申请日: | 2019-12-02 |
公开(公告)号: | CN111025613B | 公开(公告)日: | 2021-02-02 |
发明(设计)人: | 杨通;段璎哲;程德文;王涌天 | 申请(专利权)人: | 北京理工大学 |
主分类号: | G02B17/06 | 分类号: | G02B17/06 |
代理公司: | 北京理工大学专利中心 11120 | 代理人: | 刘芳;仇蕾安 |
地址: | 100081 *** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 基于 自由 曲面 基底 相位 元件 离轴三反 成像 系统 | ||
1.一种基于自由曲面基底相位元件的离轴三反成像系统,包括:
一主反射镜,该主反射镜将物方发来的光线反射,形成一第一反射光;
一次反射镜,该次反射镜设置在所述主反射镜的反射光路上,用于将所述第一反射光二次反射,形成一第二反射光,该次反射镜为一光阑面;
一第三反射镜,该第三反射镜设置在所述次反射镜的反射光路上,用于将所述第二反射光再次反射,形成一第三反射光;以及
一探测器,该探测器位于所述第三反射镜的反射光路上,用于接收所述第三反射光并成像;其特征在于,
所述主反射镜、次反射镜以及第三反射镜均为自由曲面基底相位元件,其几何形状基底均为自由曲面,基底上加载相位结构,即加载相位面;
所述主反射镜、次反射镜以及第三反射镜的反射面均由一含有x的偶次项的4次xy多项式基底自由曲面以及一含有x的偶次项的4次xy多项式相位函数描述的相位面组成,该xy多项式基底自由曲面的方程式为:
该xy多项式相位函数的方程式为:
φ(x,y)=B2y+B3x2+B5y2+B7x2y+B9y3+B10x4+B12x2y2+B14y4.。
2.根据权利要求1所述基于自由曲面基底相位元件的离轴三反成像系统,包括:所述相位面可用相位函数表征,且为二元光学衍射面、采用全息方法制备的衍射面或者超颖表面。
3.如权利要求1所述的基于自由曲面基底相位元件的离轴三反成像系统,其特征在于,所述自由曲面基底相位元件的离轴三反成像系统的视场角为8°×6°,焦距为120mm,F数为1.5。
4.如权利要求1所述的基于自由曲面基底相位元件的离轴三反成像系统,其特征在于,所述主反射镜的自由曲面基底的xy多项式的方程式中,曲率c、二次曲面系数k以及系数A2、A3、A5、A7、A9、A10、A12以及A14分别为:
曲率c 0.000770895289026918 二次曲面系数Conic constant(k) -0.797276488098187 2]]> -0.40333739087515 3]]> 0.000166363196340383 5]]> 0.000168371351992018 7]]> -2.10123802231007E-06 9]]> -6.25429616592769E-07 10]]> 1.70118140723902E-09 12]]> 1.0496733281525E-08 14]]> 7.61931339168244E-09
所述主反射镜的xy多项式相位函数的方程式中,系数B2、B3、B5、B7、B9、B10、B12以及B14分别为:
2]]> 0.193700105885708 3]]> -0.00106548423739859 5]]> -0.00124547230901764 7]]> 2.77880293615391E-06 9]]> 1.28275969434945E-07 10]]> -1.93242116870403E-09 12]]> -1.47941623745019E-08 14]]> -1.15345561309003E-08
。
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