[发明专利]激光雕刻方法及装置、计算机设备及存储介质

权利要求书

1.一种激光雕刻方法，其特征在于，基于激光雕刻装置进行雕刻操作，所述激光雕刻装置包括激光扫描装置及聚焦镜；所述激光扫描装置包括扫描电机，所述扫描电机包括X轴扫描电机和Y轴扫描电机，所述X轴扫描电机与X轴扫描反射镜连接以控制所述X轴扫描反射镜的倾斜状态，所述Y轴扫描电机与Y轴扫描反射镜连接以控制所述Y轴扫描反射镜的倾斜状态；

所述激光扫描装置用于控制激光束的投射状态，所述激光束透过所述聚焦镜后投射至目标工件以进行所述雕刻操作，所述激光雕刻方法包括：

将所述聚焦镜到所述目标工件之间的距离调整为初始工作距离；

获取雕刻文件；

根据所述雕刻文件得到雕刻信息，所述雕刻信息包括雕刻速度和雕刻方向；

根据所述雕刻信息在所述目标工件上进行试雕刻，所述试雕刻不会在所述目标工件上形成雕刻痕迹；

若试雕刻时所述激光束的光斑在所述目标工件外，则调整所述目标工件在其所在平面上的位置；

若试雕刻时所述激光束的光斑的大小超出光斑阈值，则调整所述聚焦镜到所述目标工件之间的工作距离；

根据所述雕刻信息分别控制各扫描电机运行状态，以改变所述激光束的投射状态；

获取各扫描电机的运行状态并对其进行实时调节，根据实时调节后的扫描电机的运行状态，在所述目标工件上进行雕刻操作；

所述试雕刻的激光束强度低于所述雕刻操作的激光束强度，且所述试雕刻的雕刻速度大于所述雕刻操作的速度。

2.根据权利要求1所述的激光雕刻方法，其特征在于，所述初始工作距离等于所述聚焦镜的焦距。

3.根据权利要求1所述的激光雕刻方法，其特征在于，所述根据所述雕刻信息在所述目标工件上进行试雕刻的步骤中所述激光束在所述目标工件上的轨迹仅包括所述雕刻文件中图案的外围图案。

4.根据权利要求1所述的激光雕刻方法，其特征在于，所述激光扫描装置还包括激光头、至少两个扫描反射镜；其中一个扫描反射镜与所述激光头和另一个扫描反射镜相对设置，所述另一个扫描反射镜还和所述聚焦镜相对设置；所述扫描电机与所述扫描反射镜的数量相同且一一对应，所述扫描电机分别位于相互垂直的方向上，所述扫描电机偏转轴偏转后改变所述扫描反射镜的倾斜状态以改变所述激光束的投射状态。

5.根据权利要求1所述的激光雕刻方法，其特征在于，所述获取各扫描电机的运行状态并进行实时调节包括：

获取所述雕刻信息，所述雕刻信息包含雕刻坐标和各雕刻坐标对应的雕刻速度以及雕刻方向；

获取所述扫描电机的电流、扫描电机偏转轴的运行速度及所述激光束到达目标工件上的位置，所述扫描电机的电流与所述扫描电机偏转轴的偏转方向；

根据所述雕刻坐标对所述激光束到达所述目标工件上的位置进行负反馈调节；

根据所述雕刻速度对所述扫描电机偏转轴的运行速度进行负反馈调节；

根据所述雕刻方向对所述扫描电机的电流进行负反馈调节。