[发明专利]类石墨含氢碳膜、制备方法及光学薄膜

权利要求书

1.一种类石墨含氢碳膜的制备方法，其特征在于，其包括以下步骤：

将清洁的基体置于输出极板上，在输出极板施加<100V的负偏压；

真空气氛下，通入碳氢气体进行等离子体增强化学气相沉积；

其中，所述碳氢气体为甲烷和/或氢气；所述沉积的温度≤100℃。

2.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述的沉积为射频等离子体增强化学气相沉积。

3.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述的碳氢气体的流量≥5sccm，其工作压力2～10Pa。

4.根据权利要求1至3任一项所述的方法，其特征在于，所述的基体按照以下步骤清洁：

1)采用乙醇和/或乙醚擦洗基体表面；

2)将擦洗后的基体置于输出极板上；

3)真空气氛下，通入高纯氩气，起辉，调节负偏压，清洗基体；

其中，输入极板与输出极板的间距为1～50cm。

5.根据权利要求4所述的方法，其特征在于，步骤3)所述的负偏压为20V～80V，所述的清洗时间为3min～10min。

6.根据权利要求1至3或5任一项所述的方法，其特征在于，所述的真空气氛为真空度≤3×10^-3Pa。

7.一种根据权利要求1至6任一项所述方法制备的类石墨含氢碳膜，其特征在于，所述碳膜的成分均一，其中H元素的原子个数百分含量≥20％。

8.根据权利要求7所述的类石墨含氢碳膜，其特征在于，其压应力≤0.3GPa，纳米硬度为1～10GPa。

9.一种应用权利要求7或8所述的类石墨含氢碳膜的光学薄膜，其特征在于，所述的基体选自锗、硅、蓝宝石、硫化锌、硒化锌或硫系玻璃中的一种；所述的类石墨含氢碳膜在所述光学薄膜中具有物理防护、化学防护、防潮和红外增透的作用。

10.一种应用权利要求7或8所述的类石墨含氢碳膜的光学薄膜，其特征在于，所述的基体选自柔性基体；所述的类石墨含氢碳膜与基体的结合性良好，其能够随所述的基体任意弯曲。