[发明专利]类石墨含氢碳膜、制备方法及光学薄膜在审

专利信息
申请号: 201911219324.3 申请日: 2019-12-03
公开(公告)号: CN110863188A 公开(公告)日: 2020-03-06
发明(设计)人: 伏开虎;金扬利;祖成奎;刘永华;陈玮;孙丽;谭玉蔚;郝雪菲 申请(专利权)人: 中国建筑材料科学研究总院有限公司
主分类号: C23C16/26 分类号: C23C16/26;C23C16/517;C23C16/02
代理公司: 北京鼎佳达知识产权代理事务所(普通合伙) 11348 代理人: 刘铁生;孟阿妮
地址: 100024*** 国省代码: 北京;11
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 石墨 含氢碳膜 制备 方法 光学薄膜
【权利要求书】:

1.一种类石墨含氢碳膜的制备方法,其特征在于,其包括以下步骤:

将清洁的基体置于输出极板上,在输出极板施加<100V的负偏压;

真空气氛下,通入碳氢气体进行等离子体增强化学气相沉积;

其中,所述碳氢气体为甲烷和/或氢气;所述沉积的温度≤100℃。

2.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,所述的沉积为射频等离子体增强化学气相沉积。

3.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,所述的碳氢气体的流量≥5sccm,其工作压力2~10Pa。

4.根据权利要求1至3任一项所述的方法,其特征在于,所述的基体按照以下步骤清洁:

1)采用乙醇和/或乙醚擦洗基体表面;

2)将擦洗后的基体置于输出极板上;

3)真空气氛下,通入高纯氩气,起辉,调节负偏压,清洗基体;

其中,输入极板与输出极板的间距为1~50cm。

5.根据权利要求4所述的方法,其特征在于,步骤3)所述的负偏压为20V~80V,所述的清洗时间为3min~10min。

6.根据权利要求1至3或5任一项所述的方法,其特征在于,所述的真空气氛为真空度≤3×10-3Pa。

7.一种根据权利要求1至6任一项所述方法制备的类石墨含氢碳膜,其特征在于,所述碳膜的成分均一,其中H元素的原子个数百分含量≥20%。

8.根据权利要求7所述的类石墨含氢碳膜,其特征在于,其压应力≤0.3GPa,纳米硬度为1~10GPa。

9.一种应用权利要求7或8所述的类石墨含氢碳膜的光学薄膜,其特征在于,所述的基体选自锗、硅、蓝宝石、硫化锌、硒化锌或硫系玻璃中的一种;所述的类石墨含氢碳膜在所述光学薄膜中具有物理防护、化学防护、防潮和红外增透的作用。

10.一种应用权利要求7或8所述的类石墨含氢碳膜的光学薄膜,其特征在于,所述的基体选自柔性基体;所述的类石墨含氢碳膜与基体的结合性良好,其能够随所述的基体任意弯曲。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于中国建筑材料科学研究总院有限公司,未经中国建筑材料科学研究总院有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201911219324.3/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top