[发明专利]一种PVD涂层刀片及其制备方法

权利要求书

1.一种PVD涂层刀片及其制备方法，其特征在于，所述PVD涂层刀片包括硬质合金基体材料和PVD涂层，其制备方法为：

S1：将硬质合金基体材料用磨砂盘进行磨砂、抛光；

S2：将磨砂、抛光后的硬质合金基体材料用清洗剂进行初步清洁；

S3：将初步清洁后的硬质合金基体材料加入无机酸溶液中，并对硬质合金基体材料进行超声波处理，进行深度清洁，深度清洁后进行干燥处理 ；

S4：将干燥处理后的硬质合金基体材料放入溅射室内，向溅射室内通入惰性气体，用磁控溅射技术镀上PVD涂层。

2.根据权利要求1所述的一种PVD涂层刀片及其制备方法，其特征在于，所述硬质合金基体材料为WC-CO硬质合金。

3.根据权利要求1所述的一种PVD涂层刀片及其制备方法，其特征在于，所述硬质合金基体材料的组成成分的百分比为：Co：10-15%、WC：85%-90%。

4.根据权利要求1所述的一种PVD涂层刀片及其制备方法，其特征在于，所述无机酸溶液可以为盐酸、硫酸、磷酸其中一种。

5.根据权利要求1所述的一种PVD涂层刀片及其制备方法，其特征在于，所述惰性气体为氩气或氮气其中一种，所述磁控溅射技术是以PVD涂层作为阴极靶，在1-3KV直流负高压下产生辉光放电，电离出氩离子或氮离子轰击阴极靶表面，使得靶原子溅出并沉积在硬质合金基体材料上，从而将硬质合金基体材料镀上PVD涂层。

6.根据权利要求1所述的一种PVD涂层刀片及其制备方法，其特征在于，所述PVD涂层的厚度为2-6μm。