[发明专利]显示面板及制作方法在审
申请号: | 201911226455.4 | 申请日: | 2019-12-04 |
公开(公告)号: | CN111129082A | 公开(公告)日: | 2020-05-08 |
发明(设计)人: | 陈泽升 | 申请(专利权)人: | 武汉华星光电半导体显示技术有限公司 |
主分类号: | H01L27/32 | 分类号: | H01L27/32;H01L51/52;H01L51/56 |
代理公司: | 深圳紫藤知识产权代理有限公司 44570 | 代理人: | 李新干 |
地址: | 430079 湖北省武汉市东湖新技术*** | 国省代码: | 湖北;42 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 显示 面板 制作方法 | ||
1.一种显示面板的制作方法,其特征在于,包括:
在阵列基板上形成一发光器件层;
在所述发光器件层上形成间隔层;
利用第一光罩工艺,在所述间隔层上形成多个第一开口及位于相邻所述第一开口之间的间隔体;
在所述第一开口内形成色阻层,所述色阻层包括多个色阻,一所述第一开口对应一所述色阻;
在所述间隔体及所述色阻层上形成第二遮光层,利用第二光罩工艺,在所述第二遮光层上形成多个第二开口;
所述第二开口的面积小于所述第一开口的面积。
2.根据权利要求1所述的显示面板的制作方法,其特征在于,
在所述发光器件层上形成间隔层的步骤包括:
在所述发光器件层上形成一第一绝缘层;
在所述第一绝缘层上形成一第一金属层;
在所述第一金属层上形成一第二绝缘层;
在所述第二绝缘层上形成一第二金属层;
在所述第二金属层上形成一第一遮光层。
3.根据权利要求2所述的显示面板的制作方法,其特征在于,
在所述第一绝缘层上形成一第一金属层的步骤包括:
在所述第一绝缘层上形成一第一金属层;
利用第三光罩工艺,使所述第一金属层形成多个位于相邻所述第一开口之间的架桥导线;
在所述第二绝缘层上形成一第二金属层之间还包括步骤:
在架桥导线对应的所述第二绝缘层上形成多个第一过孔,以使部分所述架桥导线裸露。
4.根据权利要求3所述的显示面板的制作方法,其特征在于,
利用第一光罩工艺,在所述间隔层上形成多个第一开口及位于相邻所述第一开口之间的间隔体的步骤包括:
对第一遮光层进行曝光、显影工艺,以形成第一遮光图案;
根据所述第一遮光图案,对所述第一绝缘层、位于所述第一金属层、位于所述第二绝缘层、所述第二金属层进行蚀刻处理,使所述第二金属层形成多条金属导线;
其中,多条所述金属导线构成沿第一方向排列的多个第一电极及沿第二方向排列的多个第二电极,所述第一电极与所述第二电极绝缘交叉设置。
5.根据权利要求1所述的显示面板的制作方法,其特征在于,
在所述第一开口内形成色阻层之前,还包括步骤:
在任一所述第一开口的内圈形成一所述第三绝缘层。
6.一种显示面板,其特征在于,包括阵列基板、位于所述阵列基板上的发光器件层、及位于所述发光器件层上的封装层;
所述封装层包括多个第一开口及位于相邻所述第一开口之间的间隔体,任一所述第一开口内填充有一色阻;
所述间隔体内设置有多条金属导线,多条所述金属导线构成沿第一方向排列的多个第一电极及沿第二方向排列的多个第二电极,所述第一电极与所述第二电极绝缘交叉设置。
7.根据权利要求6所述的显示面板,其特征在于,
所述间隔体包括位于所述发光器件层上的第一绝缘层、位于所述第一绝缘层上的第一金属层、位于所述第一金属层上的第二绝缘层、位于所述第二绝缘层上的第二金属层、及位于所述第二金属层上的第一遮光层;
所述第一绝缘层、位于所述第一金属层、位于所述第二绝缘层、所述第二金属层、及所述第一遮光层的厚度之和与所述色阻的厚度相同;
相邻两个沿第一方向设置的所述第一电极或沿第二方向设置的所述第二电极通过第一过孔与所述第二金属层电连接。
8.根据权利要求7所述的显示面板,其特征在于,
所述发光器件层包括像素区,任一所述色阻在所述发光器件层上的正投影覆盖所述像素区。
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L27-00 由在一个共用衬底内或其上形成的多个半导体或其他固态组件组成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共绝缘衬底上形成的无源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有专门适用于整流、振荡、放大或切换的半导体组件并且至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的;包括至少有一个跃变势垒或者表面势垒的无源集成电路单元的
H01L27-14 . 包括有对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射或者微粒子辐射并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或适用于通过这样的辐射控制电能的半导体组件的
H01L27-15 .包括专门适用于光发射并且包括至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的半导体组件
H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料结点的热电元件的;包括有热磁组件的