[发明专利]镀膜装置的进气系统

说明书

本发明主要提供一种镀膜装置的进气系统，用于为一镀膜装置为至少一待镀膜产品提供镀膜气体，所述镀膜装置为所述待镀膜产品进行类金刚石涂层，所述镀膜装置的进气系统能够由所述待镀膜产品的周围将镀膜气体提供至所述待镀膜产品的表面。

技术领域

本发明涉及一种镀膜装置的进气系统和进气方法，具体而言，本发明涉及一种能提高镀膜均匀性的进气系统。

背景技术

类金刚石薄膜（简称DLC）具有类似于金刚石的诸多优异的物理和化学性能，如高硬度、低摩擦系数、优良的耐磨性、低介电常数、化学惰性和生物相容性等，使其在真空微电子学、摩擦学、光电子学、声学、医学材料，甚至工业包装、装潢、装饰业等领域都有着良好的应用前景。

与金刚石薄膜的制备相比，类金刚石薄膜具有制备方法简单、沉积温度低、快捷以及易于工业化推广等优点。目前，类金刚石薄膜的制备方法包括化学气相沉积、物理气相沉积和液相法制备技术等。

等离子体增强化学气相沉积方法由于具有沉积温度低、绕镀性好以及制备的薄膜均匀致密等特点而成为最常用的制备类金刚石薄膜的方法之一。其主要通过辉光放电分解碳氢气体，从而激发形成的等离子体与衬底发生相互作用并沉积成膜。在沉积过程中，从阴极发出的高速运动的电子与源气体分子发生碰撞形成高能活性粒子，这些活性粒子之间发生化学反应，由于高能电子提高反应粒子的能量，降低反应所需能量，使得反应可在低温条件下进行，有利于形成DLC膜层。

在实际生产中，申请人发现通过现有设备镀膜的膜层厚度不均匀，处于不同位置上的产品镀膜颜色不一致，甚至同一批次的镀膜产品色差明显。难以控制腔体中每个待镀件可以均匀接受到反应气体；同时目前的进气系统占据一定的镀膜空间，降低镀膜腔体最大化利用率。

现有技术中，研究者们也设计出不同类型的镀膜设备来得到高质量的膜层。申请号为201720039885.5，名称为一种类金刚石镀膜制备设备的实用新型专利，公开了在类金刚石涂层镀膜过程中，通过气体控制系统向真空腔体进气，而气体控制系统配备了8个流量控制器和至少2个扩散器，扩散器的内部和外部配有温度控制系统，两个扩散器与8个流量控制器相连，利用运载气体将加热后的反应气体代入真空腔体内参与反应。由此可知，该技术方案中，为了向真空腔体进气，采用了至少8个流量控制器和2个扩散器的控制系统，这无疑又提高了生产成本。利用多个进气元件又会影响产品的稳定性。

发明内容

本发明的一个目的在于提供一种镀膜装置的进气系统，所述镀膜装置的进气系统设置于一镀膜装置，用于为至少一待镀膜产品进行进气镀膜，其中所述镀膜装置的进气系统能够从所述待镀膜产品的周围进气，从而能够避免所述待镀膜产品的表面镀膜不均匀的问题。

本发明的一个目的在于提供一种镀膜装置的进气系统，其中所述镀膜装置的进气系统能够使气体均匀覆盖于所述待镀膜产品的表面，从而提高所述待镀膜产品的镀膜品质。

本发明的一个目的在于提供一种镀膜装置的进气系统，其中所述镀膜装置的进气系统能够从所述待镀膜产品的两侧进气，从而使所述待镀膜产品的两侧都能均匀进气，以此提高所述镀膜装置的镀膜品质。

本发明的一个目的在于提供一种镀膜装置的进气系统，其中所述镀膜装置的进气系统能够被设置为与所述镀膜装置一体连接，从而减少所述镀膜装置的进气系统在所述镀膜装置的镀膜腔内的空间占用，以此提高所述镀膜装置对所述待镀膜产品容量。

本发明的一个目的在于提供一种镀膜装置的进气系统，其中所述镀膜装置的进气系统能够控制气体的向所述待镀膜产品喷洒的角度，从而能够根据不同的产品调节相应的角度，进而提高所述镀膜装置对所述待镀膜产品的镀膜良品率。

本发明的一个目的在于提供一种镀膜装置的进气系统，其中所述镀膜装置的进气系统能够控制气体的进气量，从而根据不同的所述待镀膜产品的不同涂层厚度进行相应的调整，从而提高所述镀膜装置的进气系统的适用范围。