[发明专利]镀膜装置的进气系统有效

专利信息
申请号: 201911227621.2 申请日: 2019-12-04
公开(公告)号: CN112899638B 公开(公告)日: 2022-11-29
发明(设计)人: 宗坚 申请(专利权)人: 江苏菲沃泰纳米科技股份有限公司
主分类号: C23C16/26 分类号: C23C16/26;C23C16/505;C23C16/455;C23C16/458;C23C16/52
代理公司: 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 代理人: 骆苏华
地址: 214000 江苏省无锡市*** 国省代码: 江苏;32
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摘要:
搜索关键词: 镀膜 装置 系统
【权利要求书】:

1.一种镀膜装置的进气系统,用于一类金刚石涂层的镀膜装置为至少一待镀膜产品进行布气镀膜,其特征在于,所述镀膜装置的进气系统包括至少一进气单元和一布气单元,其中所述布气单元被设置于该待镀膜产品的顶部,所述进气单元的一端与所述镀膜装置中的一气源装置连通,所述进气单元的另一端与所述布气单元连通,从而使经过所述进气单元进入所述布气单元的气体能够由该待镀膜产品的顶部向该待镀膜产品的表面喷洒;

所述布气单元包括至少一布气通道和至少一挡板,所述布气通道与所述进气单元连通并能够将气体传送至该待镀膜产品的表面,

各个所述布气通道形成于所述镀膜装置的一电极单元,所述电极单元位于该待镀膜产品的顶部;

各个所述挡板被固定设置于所述电极单元的上方并与所述电极单元之间形成一过渡布气空间,且所述过渡布气空间分别与所述进气单元及所述布气通道连通;

所述电极单元包括一第一电极板和一第二电极板,其中所述第一电极板被设置于所述第二电极板的上方,所述第二电极板位于靠近该待镀膜产品的一侧,以使所述布气通道位于该待镀膜产品的顶部;

所述镀膜装置包括至少一支架单元,所述支架单元被设置于所述镀膜装置的一镀膜腔内用于放置该待镀膜产品,所述支架单元包括多层支撑架,多层所述支撑架被自上而下设置,以使该待镀膜产品能够自上而下被放置于不同支撑架;

所述支撑架与所述电极单元中的所述第一电极板之间固定设置有一阻隔元件,以使所述支撑架与所述第一电极板之间进一步包括至少一主通道,其中所述主通道与所述过渡布气空间相互连通;

所述阻隔元件包括多个分支通道,所述主通道与所述过渡布气空间通过所述分支通道实现相互连通。

2.根据权利要求1所述的镀膜装置的进气系统,其中所述进气单元包括多个进气组件,各个所述进气组件的一端与所述气源装置连通,所述进气组件的另一端与所述布气单元连通。

3.根据权利要求2所述的镀膜装置的进气系统,其中所述进气单元包括与所述进气组件数量一致的连通元件,各个所述进气组件分别与其连通的所述连通元件与所述气源和所述布气单元相连通。

4.根据权利要求3所述的镀膜装置的进气系统,其中所述进气组件被实施为一进气管。

5.根据权利要求1所述的镀膜装置的进气系统,其中所述进气单元包括一进气组件和至少一连通元件,其中所述连通元件的数量与所述布气单元的数量一致,且多个所述连通元件分别与所述进气组件连通,以使从所述进气组件通过的气体能够分别被输送至所述布气单元。

6.根据权利要求1所述的镀膜装置的进气系统,其中所述第二电极板上设置有一个或多个第二布气孔,以使所述布气通道内的气体能够通过所述第二布气孔到达该待镀膜产品的表面。

7.根据权利要求1所述的镀膜装置的进气系统,其中所述电极单元电连接于一脉冲电源的负极。

8.根据权利要求1所述的镀膜装置的进气系统,其中所述第一电极板上设置有一个或多个第一布气孔,所述气体通过所述第一布气孔由所述过渡布气空间进入所述布气通道。

9.根据权利要求8所述的镀膜装置的进气系统,其中所述第一布气孔被均匀分布于所述第一电极板。

10.根据权利要求7所述的镀膜装置的进气系统,其中所述第一电极板上设置有一个或多个第一布气孔,所述气体通过所述第一布气孔由所述过渡布气空间进入所述布气通道;所述第二电极板上设置有一个或多个第二布气孔,以使所述布气通道内的气体能够通过所述第二布气孔到达该待镀膜产品的表面;各个所述第一布气孔的位置与各个所述第二布气孔的位置错位地布置。

11.根据权利要求1所述的镀膜装置的进气系统,其中所述支撑架被实施为所述挡板,并且电连接于一脉冲电源的负极,所述第一电极板和所述第二电极板分别电连接于一脉冲电源的正极。

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