[发明专利]镀膜装置的镀膜系统

说明书

本发明主要提供一种镀膜装置的镀膜系统，用于一镀膜装置为至少一待镀膜产品提供一镀膜空间，所述镀膜装置的镀膜系统在所述镀膜空间内为所述待镀膜产品完成类金刚石涂层镀膜。

技术领域

本发明涉及一种镀膜装置，具体而言，本发明涉及一种应用于类金刚石涂层镀膜的镀膜装置中的镀膜空间结构。

背景技术

类金刚石膜由于具有高硬度和高弹性模量，同时也具有很高的内应力以及优异的耐磨性和低摩擦系数，因而是一种优异的表面抗磨损改性膜，因此利用类金刚石膜高硬度、低摩擦系数以及自身良好的抗磨损性能，可将其用于机械减摩和耐磨防护涂层。

等离子体增强化学气相沉积法，又称辉光放电法，由于具有沉积温度低、绕镀性好、沉积速率高、设备简单及能够制备高质量的均匀致密薄膜的特点，已成为制备类金刚石薄膜的最常用方法之一。

在等离子体增强化学气相沉积促进化学反应过程中的重要因素是高能电子的作用，等离子体中高能电子温度可以达到9000℃，它们与气体分子产生非弹性碰撞，使分子激活，促进自由基化和离子化，产生化学活性强的高能粒子、长寿命亚稳原子、激发态原子、原子或分子态离子和电子等大量活性粒这些活性组分引发化学反应，生成反应产物，同时放出反应热。

在等离子体增强化学气相沉积的低压非平衡等离子体中，高能电子为源物质粒子提供了能量，不需要更多的外界热能便可以发生化学气相沉积，从而降低了化学反应温度，使本来难以发生或者速度很慢的化学反应成为可能，这就是低温下实现高温反应的根本原因。

而在类金刚石涂层镀膜技术向产业化推进的过程中，经常会遇到一些问题，比如由于镀膜腔的密封性达不到要求，而使镀膜产品化学反应过程中反应温度发生变化而导致镀膜产品的外观异常等，或者是由于镀膜腔的内负压无法达到一额定要求或者是无法维持在一额定要求，从而导致镀膜产品在镀膜过程中产生外观或性能异常等。

此外，由于镀膜产品是在密封的镀膜腔中完成镀膜过程，因此该镀膜腔要承受镀膜气体的长期污染，这对于镀膜产品而言，在不同的镀膜阶段是否能保持始终如一的镀膜品质也是很大的考验。

因此，本领域技术人员需要发明一种镀膜装置的镀膜系统，以改善上述提及的现有技术中存在的问题。

发明内容

本发明的一个目的在于提供一种镀膜装置的镀膜系统，所述镀膜装置的镀膜系统被设置于一镀膜装置，用于为至少一待镀膜产品提供镀膜空间，其中所述镀膜装置的镀膜系统能够为该待镀膜产品提供密封的镀膜空间，从而避免该待镀膜产品在镀膜过程中品质不稳定的情况。

本发明的一个目的在于提供一种镀膜装置的镀膜系统，其中所述镀膜装置的镀膜系统能够同时容纳较多数量的该待镀膜产品同时进行镀膜从而提高所述镀膜装置的工作效率。

本发明的一个目的在于提供一种镀膜装置的镀膜系统，其中所述镀膜装置的镀膜系统具有一密封单元，通过所述密封单元使所述镀膜装置的镀膜系统在该待镀膜产品在镀膜过程中保持密封装置。

本发明的一个目的在于提供一种镀膜装置的镀膜系统，其中所述镀膜装置的镀膜系统具有不易被污染的效果，从而使所述镀膜装置的镀膜系统能够为不同的该待镀膜产品长期提供稳定的镀膜空间。

本发明的一个目的在于提供一种镀膜装置的镀膜系统，其中所述镀膜装置的镀膜系统能够直接容纳放置该待镀膜产品的支架单元，从而使该待镀膜产品能够被同时地并且直接地放置于所述镀膜装置的镀膜系统。

本发明的一个目的在于提供一种镀膜装置的镀膜系统，其中所述镀膜装置的镀膜系统的内部结构与所述支架单元的结构在形状上适配，从而使所述镀膜装置的镀膜系统能够最大程度为该待镀膜产品提供镀膜空间。

本发明的一个目的在于提供一种镀膜装置的镀膜系统，其中所述镀膜装置的镀膜系统能够为该待镀膜产品提供至少一负压产生元件，从而使所述镀膜装置的镀膜系统能够形成负压环境。