[发明专利]静电吸盘装置及包括该静电吸盘装置的等离子体处理装置

权利要求书

1.一种静电吸盘装置，其特征在于，包括：

静电吸盘，具有上表面和下表面，所述静电吸盘的上表面用以吸附晶圆；以及

基座，所述基座的上表面与所述静电吸盘的下表面连结，所述静电吸盘中具有贯通所述静电吸盘的冷却气体孔，所述基座具有与所述冷却气体孔相对应的冷却通道，在冷却通道的靠近冷却气体孔的一端设置多孔塞，所述多孔塞的靠近冷却气体孔的一侧具有第一凹部，使得多孔塞与冷却通道的内壁形成间隙，所述第一凹部填充有聚合物材料，所述聚合物材料与多孔塞和冷却通道的内壁粘合。

2.如权利要求1所述的静电吸盘装置，其特征在于，所述基座对应所述静电吸盘的一面具有氧化铝涂层，所述聚合物材料与多孔塞、冷却通道的内壁以及氧化铝涂层的侧面粘合。

3.如权利要求1所述的静电吸盘装置，其特征在于，所述静电吸盘与所述基座之间通过硅系树脂连结。

4.如权利要求1所述的静电吸盘装置，其特征在于，所述聚合物材料为丙烯酸系树脂材料、硅系树脂材料或环氧系树脂材料。

5.如权利要求1所述的静电吸盘装置，其特征在于，所述第一凹部具有上端部分和下端部分，下端部分的截面面积小于上端部分的截面面积。

6.一种静电吸盘装置，其特征在于，包括：

静电吸盘，具有上表面和下表面，所述静电吸盘的上表面用以吸附晶圆；以及

基座，所述基座的上表面与所述静电吸盘的下表面连结，所述静电吸盘中具有贯通所述静电吸盘的冷却气体孔，所述基座具有与所述冷却气体孔相对应的冷却通道，在冷却通道的靠近冷却气体孔的一端设置多孔塞，冷却通道的靠近冷却气体孔的一端具有第二凹部，所述第二凹部填充有聚合物材料，所述聚合物材料与多孔塞以及冷却通道的第二凹部的内壁粘合。

7.一种静电吸盘装置，其特征在于，包括：

静电吸盘，具有上表面和下表面，所述静电吸盘的上表面用以吸附晶圆；以及

基座，所述基座的上表面与所述静电吸盘的下表面连结，所述静电吸盘具有贯通所述静电吸盘的第一通孔，所述基座具有连通所述第一通孔的第二通孔，在第二通孔中设置护套，所述护套的靠近第一通孔的一侧具有第三凹部，使得护套与第二通孔的内壁形成间隙，所述第三凹部填充有聚合物材料，所述聚合物材料与护套和第二通孔的内壁粘合。

8.如权利要求7所述的静电吸盘装置，其特征在于，所述基座对应所述静电吸盘的一面具有氧化铝涂层。

9.如权利要求7所述的静电吸盘装置，其特征在于，所述静电吸盘与所述基座之间通过硅系树脂连结。

10.如权利要求7所述的静电吸盘装置，其特征在于，所述聚合物材料为丙烯酸系树脂材料、硅系树脂材料或环氧系树脂材料。

11.如权利要求7所述的静电吸盘装置，其特征在于，所述第三凹部具有上端部分和下端部分，下端部分的截面面积小于上端部分的截面面积。

12.如权利要求7所述的静电吸盘装置，其特征在于，在所述第一通孔和所述第二通孔中设置有升降销。

13.一种静电吸盘装置，其特征在于，包括：

静电吸盘，具有上表面和下表面，所述静电吸盘的上表面用以吸附晶圆；以及

基座，所述基座的上表面与所述静电吸盘的下表面连结，所述静电吸盘具有贯通所述静电吸盘的第一通孔，所述基座具有连通所述第一通孔的第二通孔，在第二通孔中设置护套，第二通孔的靠近第一通孔的一端具有第四凹部，所述第四凹部填充有聚合物材料，所述聚合物材料与护套以及第四通孔的第四凹部的内壁粘合。