[发明专利]一种液晶显示器及其制备方法有效
申请号: | 201911228630.3 | 申请日: | 2019-12-04 |
公开(公告)号: | CN110865494B | 公开(公告)日: | 2022-06-14 |
发明(设计)人: | 鲁淑芬;汪伟;刘兆平 | 申请(专利权)人: | 中国科学院宁波材料技术与工程研究所 |
主分类号: | G02F1/1343 | 分类号: | G02F1/1343;G02F1/1333;B23K26/362 |
代理公司: | 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 | 代理人: | 王云晓 |
地址: | 315201 浙江*** | 国省代码: | 浙江;33 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 液晶显示器 及其 制备 方法 | ||
本发明公开了一种液晶显示器,上基板表面的第一导电层激光刻蚀有包围第一显示区域的第一隔断图形、以及包围第一隔断图形的第一清除电极区域;下基板表面的第二导电层激光刻蚀有包围第二显示区域的第二隔断图形、以及包围第二隔断图形的第二清除电极区域;第一刻蚀线可以清除第一清除电极区域的电极,第二刻蚀线可以清除第二清除电极区域的电极,从而在使用过程中可以避免第一清除电极区域与第二清除电极区域在使用过程中由于寄生电容效应产生电场,影响第一显示区域以及第二显示区域之间液晶的驱动,从而避免引线电极被显示。提升液晶显示器的显示效果。本发明还提供了一种液晶显示器的制备方法,同样具有上述有益效果。
技术领域
本发明涉及液晶显示技术领域,特别是涉及一种液晶显示器以及一种液晶显示器的制备方法。
背景技术
目前市场上的液晶显示器(LCD)的电极图案化都是采用光刻工艺实现的,即在导电玻璃上涂布光刻胶,并进行曝光,然后利用光刻胶的保护作用,对ITO导电层进行选择性化学腐蚀,从而在ITO导电玻璃上得到与掩膜版完全对应的图形。该工艺流程为:涂光刻胶-前烘-曝光-显影-后烘(坚膜)-刻蚀-去除光刻胶,工序数目多,时耗长,设备的制备成本高。除此之外,该工艺过程中使用的化学药品等产生的废水和废气的处理成本也相应增加。
为了减少液晶显示器的制作成本,简化液晶显示器的制备工序,可以采用激光刻蚀技术在导电层中刻蚀各个电极,包括引线电极,以完成非像素级的液晶显示器制作。但是在现有技术中,由激光刻蚀技术制备的液晶显示器在使用过程中,通常引线电极被显示出来,以影响液晶显示器的显示效果。所以如何避免由激光刻蚀技术制备的液晶显示器在使用过程中引线电极被显示是本领域技术人员急需解决的问题。
发明内容
本发明的目的是提供一种液晶显示器,可以避免使用过程中引线电极被显示;本发明还提供了一种液晶显示器的制备方法,所制备而成的液晶显示器可以避免使用过程中引线电极被显示。
为解决上述技术问题,本发明提供一种液晶显示器,包括上基板、下基板、FPC和液晶;
所述上基板与所述下基板相对设置,所述上基板朝向所述下基板一侧表面设置有第一导电层,所述第一导电层表面激光刻蚀有位于第一显示区域的第一显示电路、包围所述第一显示区域的第一隔断图形、以及包围所述第一隔断图形的第一清除电极区域;所述第一清除电极区域中激光刻蚀有多条均匀分布的第一刻蚀线,相邻所述第一刻蚀线之间间距的取值范围为激光光斑直径的0.5倍至1.5倍,包括端点值;
所述下基板朝向所述上基板一侧表面设置有第二导电层,所述第二导电层表面激光刻蚀有位于第二显示区域的第二显示电路、包围所述第二显示区域的第二隔断图形、以及包围所述第二隔断图形的第二清除电极区域;所述第二清除电极区域中激光刻蚀有多条均匀分布的第二刻蚀线,相邻所述第二刻蚀线之间间距的取值范围为激光光斑直径的0.5倍至1.5倍,包括端点值;
所述液晶位于所述上基板与所述下基板之间,所述第一显示电路和所述第二显示电路均与所述FPC电连接。
可选的,所述第一刻蚀线之间相互平行;所述第二刻蚀线之间相互平行。
可选的,所述第一刻蚀线与所述第二刻蚀线均为直线。
可选的,所述第一导电层表面激光刻蚀有共用电极,所述上基板与所述下基板之间设置有导电胶,所述共用电极与所述第二显示电路之间通过所述导电胶电连接。
本发明还提供了一种液晶显示器的制备方法,包括:
通过激光刻蚀机,在第一导电层表面激光刻蚀位于第一显示区域的第一显示电路、包围所述第一显示区域的第一隔断图形、以及位于第一清除电极区域的第一刻蚀线;所述第一导电层位于上基板表面,所述第一清除电极区域包围所述第一隔断图形,所述第一刻蚀线均匀分布于所述第一清除电极区域,相邻所述第一刻蚀线之间间距的取值范围为激光光斑直径的0.5倍至1.5倍,包括端点值;
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