[发明专利]形成耐等离子体涂层的方法、零部件和等离子体处理装置

权利要求书

1.一种在零部件表面形成涂层的方法，其特征在于，包括：

提供零部件；

对所述零部件进行加热；

提供涂覆材料源，所述涂覆材料源包含有机基团、氧原子和金属原子，或者所述涂覆材料源还包含氟原子；

向零部件表面输送气态的涂覆材料源，所述涂覆材料源在零部件表面因受热发生化学反应形成耐等离子体涂层，所述耐等离子体涂层包括具有稳定相的面心立方结构的钇基多元金属氧化物或钇基氧氟化物。

2.如权利要求1所述的在零部件上形成耐等离子体涂层的方法，其特征在于，所述金属原子为钇原子，所述涂覆材料源包含氟原子，所形成的耐等离子体涂层包括钇基氧氟化合物，所述钇基氧氟化合物为钇氧氟化合物。

3.如权利要求2所述的在零部件上形成耐等离子体涂层的方法，其特征在于，所述涂覆材料源仅为一种材料，所述涂覆材料源包括：2,2,2-三氟乙酸钇(III)、六氟乙酰丙酮化钇(III)和三氟甲磺酸钇(III)中的至少一种。

4.如权利要求2所述的在零部件上形成耐等离子体涂层的方法，其特征在于，所述涂覆材料源包括第一涂覆材料源和第二涂覆材料源，所述有机基团包括第一有机基团，所述第一涂覆材料源内具有第一有机基团。

5.如权利要求4所述的在零部件上形成耐等离子体涂层的方法，其特征在于，第一涂覆材料源与第二涂覆材料源中氟与氧的摩尔量比为2:1～1:1。

6.如权利要求4所述的在零部件上形成耐等离子体涂层的方法，其特征在于，所述第一涂覆材料源还包括：钇原子和氧原子，所述有机基团还包括第二有机基团，所述第二涂覆材料源还包括氟原子和第二有机基团。

7.如权利要求6所述的在零部件上形成耐等离子体涂层的方法，其特征在于，所述第一涂覆材料源包括：甲酸钇(III)、乙酸钇(III)、草酸钇、丙酸钇、异丙醇钇(III)、三(2-甲氧基氧乙基)钇、三正丁氧化钇、甲基丙烯酸钇、乙基己二酸异丙酯钇、乙酰丙酮钇(III)、三(甲基环戊二烯)钇、2-乙基己酸钇、新癸酸钇、三(2,2,6,6-四甲基-3,5-庚二酮酸)钇、环烷酸钇、异丙醇氧钇、硬脂酸钇和苦杏仁酸钇中的至少一种，所述第二涂覆材料源包括：三氟乙酸、三氟乙醇、四氟甲烷、六氟乙烷、1,3-六氟丁二烯、六氟苯、八氟环丁烷、三氟甲醇、三氟甲烷、三氟乙酸、过氧三氟乙酸、三氟乙醇、三氟乙酸脂、2-氟丁酸、全氟辛酸和十一氟已酸中的至少一种。

8.如权利要求4所述的在零部件上形成耐等离子体涂层的方法，其特征在于，所述第一涂覆材料源还包括钇原子和氟原子，所述第二涂覆材料源包括氧原子。

9.如权利要求8所述的在零部件上形成耐等离子体涂层的方法，其特征在于，所述第一涂覆材料源包括氟碳酸钇、三氟乙酸钇(III)、六氟乙酰丙酮化钇(III)和三氟甲磺酸钇(III)中的至少一种，所述第二涂覆材料源包括：臭氧、二氟化氧和二氟化二氧中的至少一种。

10.如权利要求4所述的在零部件上形成耐等离子体涂层的方法，其特征在于，所述第一涂覆材料源还包括钇原子和氧原子，所述有机基团还包括第二有机基团，所述第二涂覆材料源还包括钇原子、氟原子和第二有机基团。

11.如权利要求10所述的在零部件上形成耐等离子体涂层的方法，其特征在于，所述第一材料源包括：甲酸钇(III)、乙酸钇(III)、草酸钇、丙酸钇、异丙醇钇(III)、三(2-甲氧基氧乙基)钇、三正丁氧化钇、甲基丙烯酸钇、乙基己二酸异丙酯钇、乙酰丙酮钇(III)、2-乙基己酸钇、新癸酸钇、三(2,2,6,6-四甲基-3,5-庚二酮酸)钇、环烷酸钇、异丙醇氧钇、硬脂酸钇和苦杏仁酸钇中的至少一种，所述第二材料源包括：氟碳酸钇、三氟乙酸钇(III)、六氟乙酰丙酮化钇(III)和三氟甲磺酸钇(III)中的至少一种。