[发明专利]一种回转炉控制系统

说明书

本发明实施例提供一种回转炉控制系统，包括：PLC控制系统，温度控制系统；所述温度控制系统包括温度控制模块、温度检测模块以及可控硅；其中，所述PLC控制系统，用于接收回转炉各温区加热的开度百分比和各温区PID参数；所述温度检测模块，用于检测回转炉炉内温度，并将检测得到的炉内温度发送到所述PLC控制系统；所述温度控制模块，用于根据所述炉内温度、所述各温区加热的开度百分比和所述各温区的PID参数，通过PID算法控制对应所述温区的可控硅的输出，以连续调节负载电压，使电流输出稳定。通过上述实施例，能够精准的、稳定地控制回转炉的温度，同时避免发热体损坏频繁的问题。

技术领域

本发明涉及回转炉技术领域，尤其涉及一种回转炉控制系统。

背景技术

回转炉是一种煅烧、焙烧或干燥粒状及粉状物料的热工设备。传统的回转炉加热控制系统多用接触器或固态继电器对发热体进行控制，但是接触器或固态继电器频繁的通断会损坏发热体，从而影响了温度的精准控制。

此外，接触器或固态继电器频繁的通断产生的电流冲击会影响甲方变压器的运行。

发明内容

本发明的目的在于提供一种回转炉控制系统，能够精准的、稳定地控制温度，同时避免发热体损坏频繁的问题。

本发明提供一种回转炉控制系统，包括：PLC控制系统，温度控制系统；所述温度控制系统包括温度控制模块、温度检测模块以及可控硅；其中，

所述PLC控制系统，用于接收回转炉各温区加热的开度百分比和各温区PID参数；

所述温度检测模块，用于检测回转炉炉内温度，并将检测得到的炉内温度发送到所述PLC控制系统；

所述温度控制模块，用于根据所述炉内温度、所述各温区加热的开度百分比和所述各温区的PID参数，通过PID算法控制对应所述温区的可控硅的输出，以连续调节负载电压，使电流输出稳定。

进一步地，所述回转炉控制系统的驱动系统包括变频器和驱动电机，所述变频器根据设定的变频器频率使驱动电机控制回转炉的回转速度和物料传送速度。

进一步地，所述回转炉控制系统，还包括，冷却系统，所述冷却系统用于实时检测回转炉冷却段中冷却水的温度及检测冷却水箱液位状态；其中，所述冷却系统与所述PLC控制系统连接。

进一步地，所述回转炉控制系统，还包括，报警系统，所述报警系统用于当所述回转炉冷却段中的冷却水的温度超过设定值或回转炉冷却段中的冷却水箱液位状态超过设定值时，发出警报信号；其中，所述报警系统与所述PLC控制系统连接。

进一步地，所述的回转炉控制系统的回转炉本体入口、回转炉本体出口、回转炉冷却段入口、回转炉冷却段上的冷却水入口、回转炉冷却段上的冷却水的出口和回转炉本体的排气孔均设有温度检测模块；

所述回转炉本体入口的热电偶用于检测回转炉本体入口的温度，所述回转炉本体出口的热电偶用于检测回转炉本体出口的温度，当回转炉本体入口的温度超过设定值时或回转炉本体出口的温度超过设定值时，报警系统发出报警信号；

所述回转炉冷却段入口的热电偶用于检测回转炉冷却段入口温度的状态，检测物料进入冷却段时的温度情况，提供分析物料状态依据；

所述回转炉冷却段上的冷却水入口的热电偶用于检测冷却水入口的温度，所述回转炉冷却段上的冷却水出口的热电偶用于检测冷却水出口的温度，所述回转炉冷却段上的冷却水入口温度和回转炉冷却段上的冷却水出口温度用于提供冷却水供水量判断依据。

进一步地，所述回转炉控制系统，还包括炉压传感器，所述炉压传感器用于检测炉压信息，所述炉压传感器安装在回转炉本体。

进一步地，所述回转炉控制系统，所述回转炉控制系统还包括氧含量分析仪，所述氧含量分析仪用于采集炉内氧含量。