[发明专利]一种斜面研磨抛光用工装夹具和系统及斜面研磨抛光方法

说明书

本发明涉及研磨抛光技术领域，尤其涉及一种斜面研磨抛光用工装夹具及方法，包括夹具本体，其特征是：夹具本体下端设有豁口槽，豁口槽的至少一侧为倾斜向下的贴合面，贴合面顶部固定有顶部挡板。还涉及一种斜面研磨抛光用工装系统，其特征是，包括上述工装夹具、研磨机，研磨机包括下研盘和游星轮，下研盘上套接带动其转动的中心轴；中心轴上套接可自由转动的内齿圈，下研盘上侧设有外齿圈；游星轮设于下研盘上且分别与内齿圈和外齿圈啮合；夹具本体固定在游星轮单元腔内。通过此夹具固定待加工基片，实现基片斜面的研磨、抛光，既解决因压力过大产生的侧面角破损现象，又保证加工时侧面的稳定性，提高斜面研抛产品良率，结构简单、操作方便。

技术领域

本发明涉及抛光研磨技术领域，尤其涉及一种斜面研磨抛光用工装夹具和系统及斜面研磨抛光方法。

背景技术

随着社会的发展及新产品的研发，传统的产品主平面的研磨、抛光已经无法满足社会的需求，斜面研抛新工艺研究逐渐在光学行业内开展进行。对于产品的常规主平面研磨、抛光来说，现有的研磨、抛光设备均采用上盘面施压磨削原理，但是对于产品一侧的斜面研抛(研磨、抛光)来说，上盘面的自重过大，且侧斜面在加工过程中难以固定，会导致斜面角破损和角度难以控制，从而使产品良率大大降低。

专利申请号为CN20172124540851的“一种双面研磨机”，包括机架，其特征在于：所述机架的上端设置有研磨平台，研磨平台固定安装在机架的上端；所述研磨平台的上端设置有研磨装置，研磨装置包括上研盘和下研盘，上研盘的上端设置有第一电机，第一电机的输出端与上研盘的上端中央固定连接；所述上研盘和下研盘间设置有太阳轮、游星轮和齿圈，太阳轮固定安装在上研盘和下研盘的中央，太阳轮的下端设置有传动轴，传动轴的下端设置有第二电机，第二电机固定安装在研磨平台的上端中央，传动轴的底端与第二电机的输出端固定连接；所述游星轮的数量为三个，三个游星轮均与太阳轮和齿圈啮合；所述游星轮的底端设置有游星轮架，游星轮架通过滑轮活动安装在研磨平台上，三个游星轮均安装在游星轮架上，下研盘固定安装在游星轮架的上端；所述齿圈的下端设置有支撑架，支撑架的侧端固定安装在研磨平台上，支撑架的下端中央设置有升降杆，升降杆的底端设置有内螺纹槽，内螺纹槽内设置有内螺纹；所述机架的上端安装有第三电机，第三电机的上端设置有螺杆，螺杆的底端与第三电机的输出端固定连接，螺杆的上端活动旋接在升降杆底端的内螺纹槽内。上述专利所述技术方案虽然能够对基片产品的双面进行快速研磨，效率高，但是其结构复杂，操作不便。

另外，基片研抛的现有工艺中，通常会使用多种研抛设备：对基片平面(包括正、反面)进行研抛时，会用到双面研磨机或单面研磨机，对斜面进行研磨时，还要用到斜面研磨机。对研抛设备的投资大，占用设备多。

发明内容

为解决上述背景技术中提出的问题，本发明提供一种斜面研磨抛光用工装夹具和系统及斜面研磨抛光方法，通过设计此夹具来固定待加工基片，实现基片斜面的研磨、抛光，既可以解决因上研盘自重过大产生的斜面角破损现象，又可以保证在加工过程中斜面的稳定性，从而提高斜面研抛基片的良率，结构简单、操作方便。

为实现上述目的，本发明提供如下技术方案：一种斜面研磨抛光用工装夹具，包括夹具本体，所述夹具本体下端开设有若干豁口槽，所述豁口槽的至少一侧为倾斜向下的平整的贴合面，所述贴合面的顶部固定有相应的顶部挡板。

优选地，所述贴合面上设有用于粘合待研磨、抛光基片的粘合剂或双面胶。

优选地，每个所述的贴合面上都至少开设有一个中间槽。

优选地，所述贴合板与所述顶部挡板垂直，所述贴合面与相应所述顶部挡板的连接处开设有预留槽。

优选地，所述贴合面与底部水平方向的夹角θ范围为0°＜θ＜90°。

优选地，还包括用于对所述夹具本体增加向下压力的配重块，所述配重块为金属配重块，所述配重块设有若干个，且其重量各有不同。