[发明专利]获得均匀面光源的方法有效
申请号: | 201911235757.8 | 申请日: | 2019-12-05 |
公开(公告)号: | CN110822302B | 公开(公告)日: | 2021-01-01 |
发明(设计)人: | 不公告发明人 | 申请(专利权)人: | 北京云端光科技术有限公司 |
主分类号: | F21K9/233 | 分类号: | F21K9/233;F21K9/60;F21Y115/10 |
代理公司: | 北京英创嘉友知识产权代理事务所(普通合伙) 11447 | 代理人: | 曹寒梅 |
地址: | 100048 北京市海淀*** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 获得 均匀 光源 方法 | ||
1.一种获得均匀面光源的方法,其特征在于,包括:
获取形成面光源的各个点光源在需要所述面光源照射的区域上的光强分布;
基于所述光强分布,获取需要所述面光源照射的区域上的各个位置处的光强;
基于需要所述面光源照射的区域上的各个位置处的光强,确定需要所述面光源照射的区域上的光强均匀性;
基于所确定的光强均匀性,确定所述面光源的光强均匀性性能;
对所述光强均匀性性能进行优化,得到各个所述点光源的优化后的功率和/或间距。
2.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,在所述点光源为半球面形点光源的情况下,各个点光源在需要所述面光源照射的区域上的光强分布通过下述公式获得:
Hi(x,y,z)=Ai/(2π((x-xi)2+(y-yi)2+(z-zi)2))
其中,i表示第i个点光源;xi,yi,zi表示在以需要所述面光源照射的区域的中心在所述面光源上的投影作为坐标原点的坐标系中,第i个点光源的坐标;Hi(x,y,z)表示第i个点光源在需要所述面光源照射的区域上的、坐标为x,y,z位置处的光强;Ai表示第i个点光源的发光强度参数。
3.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,所述基于需要所述面光源照射的区域上的各个位置处的光强,确定需要所述面光源照射的区域上的光强均匀性,包括:
计算需要所述面光源照射的区域上的各个位置处的光强与需要所述面光源照射的整个区域上的平均光强的差的平方和;
基于所述平方和确定需要所述面光源照射的区域上的光强均匀性。
4.根据权利要求3所述的方法,其特征在于,所述基于所述平方和确定需要所述面光源照射的区域上的光强均匀性,利用以下公式来实现:
其中,xn,yn,zn,An表示在以需要所述面光源照射的区域的中心在所述面光源上的投影作为坐标原点的坐标系中,第n个点光源的坐标和发光强度参数;H(x,y,z)表示需要所述面光源照射的区域上的、坐标为x,y,z位置处的光强;mean(H)表示需要所述面光源照射的整个区域上的平均光强;WH表示需要所述面光源照射的区域的宽度;WL表示需要所述面光源照射的区域的高度。
5.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,所述基于需要所述面光源照射的区域上的各个位置处的光强,确定需要所述面光源照射的区域上的光强均匀性,包括:
计算需要所述面光源照射的区域上的最大光强和最小光强的差值与需要所述面光源照射的整个区域上的平均光强的比值;
基于所述比值来确定需要所述面光源照射的区域上的光强均匀性。
6.根据权利要求1至5中任一权利要求所述的方法,其特征在于,所述基于所确定的光强均匀性,确定所述面光源的光强均匀性性能,包括:
计算所确定的光强均匀性的开方、加上需要所述面光源照射的整个区域上的平均光强的倒数与预设系数的乘积;
基于所述乘积,确定所述面光源的光强均匀性性能。
7.根据权利要求1至5中任一权利要求所述的方法,其特征在于,所述基于所确定的光强均匀性,确定所述面光源的光强均匀性性能,包括:
计算所确定的光强均匀性、加上需要所述面光源照射的整个区域上的平均光强的倒数与预设系数的乘积;以及
基于所述乘积,确定所述面光源的光强均匀性性能。
8.根据权利要求1至5中任一权利要求所述的方法,其特征在于,所述对所述光强均匀性性能进行优化,包括:使所述光强均匀性性能的值最小化。
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