[发明专利]蒸镀装置及其掩膜板的制备方法在审
| 申请号： | 201911236364.9 | 申请日： | 2019-12-05 |
| 公开（公告）号： | CN111004998A | 公开（公告）日： | 2020-04-14 |
| 发明（设计）人： | 孙锋;魏锋;李金川;涂爱国;谭伟 | 申请（专利权）人： | 深圳市华星光电半导体显示技术有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/24 | 分类号： | C23C14/24;C23C14/04;C23C14/35;C23C14/14;C23C14/08 |
| 代理公司： | 深圳紫藤知识产权代理有限公司 44570 | 代理人： | 远明 |
| 地址： | 518132 广东省深*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 装置 及其 掩膜板 制备 方法 | ||
1.一种蒸镀装置，其特征在于，包括：
掩模板安装平台；
掩模板；
基板；
磁板；以及
贴合件；
其中所述掩膜板设置在所述掩模板安装平台上，所述基板设置在所述掩模板和所述磁板之间，所述贴合件设置在所述基板和所述磁板的两侧，以及所述掩膜板的表面涂覆热反射材料层。
2.如权利要求1所述的蒸镀装置，其特征在于，所述热反射材料层是由金属及金属氧化物组成。
3.如权利要求1所述的蒸镀装置，其特征在于，所述热反射材料层是由纳米隔热材料层和金属箔组成。
4.如权利要求1所述的蒸镀装置，其特征在于，所述热反射材料层的厚度介于50至200微米之间。
5.如权利要求1所述的蒸镀装置，其特征在于，所述热反射材料层的表面进一步涂覆保护层，所述保护层包括氟碳聚合物。
6.一种用于蒸镀装置的掩膜板的制备方法，其特征在于，包括：
提供框架；
对所述框架进行热处理；
隔离所述框架和图案化掩膜层之间的焊接区；
形成第一热反射材料层在所述框架上；
对所述框架和所述图案化掩膜层进行焊接；
形成第二热反射材料层在所述图案化掩膜之间；以及
形成保护层在所述第一热反射材料层和所述第二热反射材料层上。
7.如权利要求6所述的制备方法，其特征在于，所述第一热反射材料层和所述第二热反射材料层是由金属及金属氧化物组成。
8.如权利要求6所述的制备方法，其特征在于，所述第一热反射材料层和所述第二热反射材料层是由纳米隔热材料层和金属箔组成，所述金属箔包括銀和鋁。
9.如权利要求8所述的制备方法，其特征在于，所述纳米隔热材料层的厚度介于200至400微米之间，所述金属箔的厚度介于300至800纳米之间。
10.如权利要求7所述的制备方法，其特征在于，所述第一热反射材料层和所述第二热反射材料层的厚度介于50至200微米之间。
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