[发明专利]一种基于半互穿聚合物网络的响应性材料及其应用

权利要求书

1.一种基于半互穿聚合物网络的响应性材料，其特征在于，包括由液晶弹性体和胆甾相液晶聚合物网络形成的半互穿聚合物网络，所述胆甾相液晶聚合物网络由包括液晶单体、光引发剂和表面活性剂的液晶混合物聚合形成，所述液晶单体包括一种及以上的液晶单体化合物，至少一种所述液晶单体化合物为单官能团液晶单体，至少两种所述液晶单体化合物为手性可聚合液晶单体和非手性可聚合液晶单体，所述响应性材料的原料包括70～80质量份的液晶弹性体、5～25质量份的手性可聚合液晶单体、4～11质量份的非手性可聚合液晶单体、0.5～2质量份的光引发剂和0.5～2质量份的表面活性剂。

2.根据权利要求1所述的基于半互穿聚合物网络的响应性材料，其特征在于，至少两种所述液晶单体化合物为单官能团液晶单体和双官能团液晶单体。

3.根据权利要求2所述的基于半互穿聚合物网络的响应性材料，其特征在于，所述单官能团液晶单体：双官能团液晶单体的摩尔比为1：(1～50)。

4.权利要求1-3任一项所述的基于半互穿聚合物网络的响应性材料在温度响应液晶器件、温度响应涂层、防伪标签、监测指示领域中的应用。

5.一种温度响应液晶器件，其特征在于，包括权利要求1-3任一项所述的基于半互穿聚合物网络的响应性材料。

6.一种温度响应涂层，其特征在于，包括权利要求1-3任一项所述的基于半互穿聚合物网络的响应性材料。

7.根据权利要求6所述的温度响应涂层，其特征在于，所述温度响应涂层为图案化涂层。

8.权利要求7所述的温度响应涂层的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：将所述基于半互穿聚合物网络的响应性材料覆于基材上形成涂层；

所述涂层的目标图案化区域处施加光照一，其余区域处施加光照二，所述光照一的光照强度小于所述光照二的光照强度。

9.根据权利要求8所述的温度响应涂层的制备方法，其特征在于，0.01mw/cm²≤所述光照一的光照强度＜所述光照二的光照强度≤32mw/cm²。