[发明专利]发光模块在审

专利信息
申请号: 201911238325.2 申请日: 2018-03-19
公开(公告)号: CN111048493A 公开(公告)日: 2020-04-21
发明(设计)人: 李锺旼;金枋显;李在浩 申请(专利权)人: 首尔半导体株式会社
主分类号: H01L25/075 分类号: H01L25/075;H01L33/36;H01L33/58;H01L33/50
代理公司: 北京铭硕知识产权代理有限公司 11286 代理人: 全振永;李盛泉
地址: 韩国京畿*** 国省代码: 暂无信息
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 发光 模块
【权利要求书】:

1.一种发光模块,包括:

基础基板;

壳体,位于所述基础基板上,并包括腔室;

第一发光二极管,位于所述基础基板上;以及

第二发光二极管,位于所述基础基板上,并与所述第一发光二极管相隔,

其中,所述第一发光二极管以及所述第二发光二极管位于所述壳体的腔室内,

所述第一发光二极管及第二发光二极管分别包括第一发光区域以及从所述第一发光区域隔开而围绕所述第一发光区域的第二发光区域,

从所述第一发光二极管射出的光的指向角和从所述第二发光二极管射出的光的指向角彼此不同。

2.如权利要求1所述的发光模块,其中,

从所述第一发光二极管射出的光的指向角比从所述第二发光二极管射出的光的指向角窄。

3.如权利要求2所述的发光模块,其中,

所述第一发光二极管以及所述第二发光二极管分别通过控制施加于所述第一发光区域以及所述第二发光区域的电源的比率而控制射出的光的指向角。

4.如权利要求3所述的发光模块,其中,

施加于所述第一发光区域的电源的比率越大,从所述第一发光二极管射出的光的指向角越窄。

5.如权利要求3所述的发光模块,其中,

施加于所述第一发光区域的电源的比率越大,从所述第一发光二极管射出的光的指向角越宽。

6.如权利要求2所述的发光模块,其中,

通过控制施加于所述第一发光二极管以及所述第二发光二极管的电源的比率而控制光的指向角。

7.如权利要求6所述的发光模块,其中,

施加于所述第二发光二极管的电源的比率比施加于所述第二发光二极管的电源的比率大。

8.如权利要求1所述的发光模块,其中,

所述第一发光二极管以及所述第二发光二极管分别还包括覆盖所述第一发光区域以及所述第二发光区域的波长转换层。

9.如权利要求1所述的发光模块,其中,

所述第一发光二极管以及所述第二发光二极管还包括覆盖所述第二发光区域的侧面的侧面反射层。

10.如权利要求1所述的发光模块,还包括:

透镜,位于所述第一发光二极管以及所述第二发光二极管上。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于首尔半导体株式会社,未经首尔半导体株式会社许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201911238325.2/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top