[发明专利]光学模具、防爆膜及其制作方法、后盖及电子设备

权利要求书

1.一种光学模具的制作方法，其特征在于，所述方法包括：

设计纹理结构设计图形，其中，所述纹理结构设计图形包括至少两组在一参考平面上叠加的空间曲线，每组所述空间曲线包括多条空间曲线，同一组的所述空间曲线在所述参考平面内沿相同方向延伸，不同组的所述空间曲线延伸方向相同或不同；所述空间曲线在垂直于所述参考平面的方向上连续变化；

根据所述纹理结构设计图形，采用光刻直写工艺，制作具有所述纹理结构设计图形的光学模具。

2.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，每条所述空间曲线的线宽为50-80μm。

3.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，相邻两条所述空间曲线的间距为30-50μm。

4.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述制作具有所述纹理结构设计图形的光学模具之后，还包括：

采用超声波技术对所述光学模具进行清洗。

5.一种光学模具，其特征在于，采用如权利要求1-4中任一项所述的方法制作而成。

6.一种具有纹理结构的防爆膜的制作方法，其特征在于：

在如权利要求5所述的光学摸具上滴上胶水；

将所述光学摸具上的胶水转印到防爆膜上；

对所述防爆膜上的胶水进行固化，得到具有纹理结构的防爆膜。

7.根据权利要求6所述的方法，其特征在于，所述对防爆膜上的胶水进行固化之后，还包括：通过溅射镀膜工艺，对所述纹理结构进行着色。

8.一种防爆膜，其特征在于，包括：采用如权利要求6或7所述方法制作而成。

9.一种电子设备的后盖，包括如权利要求8所述的防爆膜。

10.一种电子设备，其特征在于，包括如权利要求9所述的后盖。