[发明专利]盖板、盖板的制备方法和显示装置在审
| 申请号： | 201911241501.8 | 申请日： | 2019-12-06 |
| 公开（公告）号： | CN111063258A | 公开（公告）日： | 2020-04-24 |
| 发明（设计）人： | 何春梅 | 申请（专利权）人： | 武汉华星光电半导体显示技术有限公司 |
| 主分类号： | G09F9/30 | 分类号： | G09F9/30 |
| 代理公司： | 深圳紫藤知识产权代理有限公司 44570 | 代理人： | 李新干 |
| 地址： | 430079 湖北省武汉市东湖新技术*** | 国省代码： | 湖北;42 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 盖板 制备 方法 显示装置 | ||
1.一种盖板，包括平面区、以及与所述平面区连接的弯折区，其特征在于，所述盖板包括：
衬底，所述衬底在所述平面区的厚度大于在所述弯折区内的厚度；
柔性层，形成在所述衬底一侧；
硬质层，形成在所述柔性层远离所述衬底的一侧。
2.如权利要求1所述的盖板，其特征在于，在所述弯折区内，所述衬底远离所述柔性层的一侧形成有凹槽。
3.如权利要求2所述的盖板，其特征在于，所述凹槽的深度小于或等于所述衬底的厚度。
4.如权利要求3所述的盖板，其特征在于，所述盖板还包括填充层，所述填充层形成在所述凹槽内。
5.如权利要求4所述的盖板，其特征在于，所述填充层包括硅胶光学胶和自修复材料中的至少一种。
6.如权利要求4所述的盖板，其特征在于，所述填充层的厚度小于或等于所述凹槽的深度。
7.一种盖板的制备方法，所述盖板包括平面区、以及与所述平面区连接的弯折区，其特征在于，所述制备方法包括：
提供衬底，所述衬底在所述平面区的厚度大于在所述弯折区内的厚度，在所述衬底一侧形成柔性层；
在所述柔性层远离所述衬底的一侧形成硬质层。
8.如权利要求7所述的盖板的制备方法，其特征在于，所述提供衬底，所述衬底在所述平面区的厚度大于在所述弯折区内的厚度，在所述衬底一侧形成柔性层的步骤包括：
提供衬底；
在所述衬底一侧形成柔性层；
在所述衬底远离所述柔性层的一侧形成凹槽，所述凹槽与所述弯折区对应。
9.如权利要求8所述的盖板的制备方法，其特征在于，所述在所述衬底远离所述柔性层的一侧形成凹槽，所述凹槽与所述弯折区对应的步骤包括：在所述衬底远离所述柔性层的一侧形成深度小于或等于所述衬底厚度的凹槽。
10.如权利要求9所述的盖板的制备方法，其特征在于，所述在所述柔性层远离所述衬底的一侧形成硬质层的步骤包括：
在所述凹槽内设置保护层，所述保护层延伸覆盖所述衬底远离所述柔性层的一侧；
在所述柔性层远离所述衬底的一侧形成硬质层；
剥离所述保护层。
11.如权利要求10所述的盖板的制备方法，其特征在于，所述剥离所述保护层的步骤后还包括：在所述凹槽内形成填充层。
12.如权利要求11所述的盖板的制备方法，其特征在于，所述在所述凹槽内形成填充层的步骤包括：在所述凹槽内形成材质为硅胶光学胶和自修复材料中的至少一种的填充层。
13.如权利要求11所述的盖板的制备方法，其特征在于，所述在所述凹槽内形成填充层的步骤包括：在所述凹槽内形成厚度小于或等于所述凹槽的深度的填充层。
14.如权利要求11所述的盖板的制备方法，其特征在于，所述在所述凹槽内形成填充层的步骤包括：在所述凹槽内打印形成所述填充层。
15.一种显示装置，其特征在于，包括盖板和显示面板，所述盖板包括平面区、以及与所述平面区连接的弯折区，其中盖板还包括：
衬底，所述衬底在所述平面区的厚度大于在所述弯折区内的厚度；
柔性层，形成在所述衬底一侧；
硬质层，形成在所述柔性层远离所述衬底的一侧。
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