[发明专利]沟道型功率器件版图结构、半导体功率器件及电子设备在审

专利信息
申请号: 201911243260.0 申请日: 2019-12-06
公开(公告)号: CN112928109A 公开(公告)日: 2021-06-08
发明(设计)人: 肖婷;史波;吴佳蒙;曾丹;曹俊 申请(专利权)人: 珠海格力电器股份有限公司;珠海零边界集成电路有限公司
主分类号: H01L27/02 分类号: H01L27/02;H01L27/082;H01L29/739
代理公司: 北京同达信恒知识产权代理有限公司 11291 代理人: 赵凯莉
地址: 519070 广*** 国省代码: 广东;44
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摘要:
搜索关键词: 沟道 功率 器件 版图 结构 半导体 电子设备
【权利要求书】:

1.一种沟道型功率器件版图结构,其特征在于,包括:多个版图单元;

每个所述版图单元具有栅极区以及四个环绕所述栅极区分布的沟道区,沿行方向或列方向,任意两个相邻的所述沟道区的沟道相互垂直。

2.根据权利要求1所述的沟道型功率器件版图结构,其特征在于,每个所述沟道区具有用于与所述栅极区匹配的避让缺口。

3.根据权利要求2所述的沟道型功率器件版图结构,其特征在于,每个所述沟道区包括并排设置的第一沟道组和第二沟道组;

所述第一沟道组的第一端与所述第二沟道组的第一端平齐,所述第二沟道组的第二端短于所述第二沟道组的第二端以形成所述避让缺口。

4.根据权利要求3所述的沟道型功率器件版图结构,其特征在于,所述第一沟道组包括多条并排设置的第一沟道,所述第二沟道组包括多条并排设置的第二沟道。

5.根据权利要求4所述的沟道型功率器件版图结构,其特征在于,任意两条相邻的所述第一沟道之间的间距与任意两条相邻的所述第二沟道之间的间距相等。

6.根据权利要求1-5中任一项所述的沟道型功率器件版图结构,其特征在于,所述版图单元数量为四个,每个所述版图单元为正方形。

7.一种半导体功率器件,其特征在于,包括:器件本体;

所述器件本体具有如权利要求1-6中任一项所述的沟道型功率器件版图结构。

8.一种电子设备,其特征在于,包括如权利要求7所示的半导体功率器件。

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