[发明专利]基于气体放电型大功率电子枪的复合型基材连续镀膜系统有效
申请号: | 201911248580.5 | 申请日: | 2019-12-09 |
公开(公告)号: | CN111020522B | 公开(公告)日: | 2022-05-27 |
发明(设计)人: | 王殿儒 | 申请(专利权)人: | 王殿儒 |
主分类号: | C23C14/56 | 分类号: | C23C14/56;C23C14/30;C23C14/32;C23C14/35 |
代理公司: | 北京安度修典专利代理事务所(特殊普通合伙) 11424 | 代理人: | 杨方成 |
地址: | 100086 北京市*** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 基于 气体 放电 大功率 电子枪 复合型 基材 连续 镀膜 系统 | ||
1.一种基于气体放电型大功率电子枪的复合型基材连续镀膜系统,其特征在于,该镀膜系统用于实现异形件、带材卷绕的镀膜,包括前处理系统与复合镀膜系统,其中,
所述前处理系统在有机溶剂中对被镀基材进行表面清洁、活化与保护,使得所述被镀基材的表面在所述有机溶剂中形成保护层;
所述复合镀膜系统用于将经过所述前处理系统处理后的所述被镀基材在真空中加热脱落所述保护层,再经过离子镀膜、蒸发镀膜或溅射镀膜中的一种或多种完成表面镀层处理;
所述蒸发镀膜选用气体放电型大功率电子枪进行蒸发镀膜。
2.根据权利要求1所述的基于气体放电型大功率电子枪的复合型基材连续镀膜系统,其特征在于,所述前处理系统分为多步工序,通过机械臂将所述被镀基材依次进行多步工序在其表面形成保护层,所述多步工序包括:
第一处理池,所述第一处理池的水溶液的添加剂为A1,浓度为C1,温度为T1,超声波辅助,处理时间为t1;
第二处理池,所述第二处理池的水溶液的添加剂为A2,浓度为C2,温度为T2,超声波辅助,处理时间为t2;
第三处理池,为漂洗池,用于将被镀基材进行漂洗,所述第三处理池选用工业清洁水,水温为T3,超声波辅助,处理时间为t3;
第四处理池,为保护处理池,所述第四处理池的水溶液的添加剂为A3,浓度为C3,温度为T4,处理时间为t4,所述第四处理池连续使用时间为5天;
第五处理池,为保护处理池,所述第五处理池的水溶液的添加剂为A3,浓度为C4,温度为T5,处理时间为t5,所述第五处理池连续使用时间为5天;
第六处理池,为烘干池,温度为T6。
3.根据权利要求2所述的基于气体放电型大功率电子枪的复合型基材连续镀膜系统,其特征在于,所述多步工序还包括:
第七处理池,为烘干池,温度为T6。
4.根据权利要求2所述的基于气体放电型大功率电子枪的复合型基材连续镀膜系统,其特征在于,
所述第一处理池的水溶液的添加剂为SurTec042号,浓度为4%,温度为45~50°,处理时间为100~120s;
所述第二处理池的水溶液的添加剂为SurTec042号,浓度为2%,温度为45~50°,处理时间为100~120s;
所述第三处理池水温为20~25°,处理时间为100~120s;
所述第四处理池的水溶液的添加剂为SurTec533号,浓度为0.5%,温度为55~65°,处理时间为100~120s,所述第四处理池连续使用时间为5天;
所述第五处理池的水溶液的添加剂为SurTec533号,浓度为1%,温度为55~65°,处理时间为100~120s,所述第五处理池连续使用时间为5天;
第六处理池的温度为90~110°。
5.根据权利要求1所述的基于气体放电型大功率电子枪的复合型基材连续镀膜系统,其特征在于,对所述异形件进行镀膜时,所述复合镀膜系统为三连仓设计,用于将经过所述前处理系统处理后的被镀基材完成表面镀层处理,包括:第一真空仓、第二真空仓、第三真空仓、工件车、移动支架、真空仓支架、坩埚、靶材、蒸发源、隔阀门与真空系统,所述真空系统用于为所述第一真空仓、第二真空仓与第三真空仓进行抽真空,所述第一真空仓、第二真空仓与第三真空仓的下方均设置有所述真空仓支架,相邻所述第一真空仓、第二真空仓与第三真空仓之间均设置有所述隔阀门,所述蒸发源设置在所述第二真空仓上,被镀基材绝缘设置,其中,
经过所述前处理系统处理后的被镀基材安装固定在所述移动支架上,安装有被镀基材的所述移动支架和工件车经工作人员放置于所述第一真空仓中,经过所述真空系统进行排空,同时加热所述第一真空仓,使得被镀基材温度值为T7,维持时间t6,被镀基材上的保护层脱落;
打开所述隔阀门,所述工件车向前运动至所述第二真空仓,对被镀基材施加负偏压,再进行多弧离子镀膜,在被镀基材表面形成金属过渡层,镀膜时间持续10-20分钟;
打开所述隔阀门,所述工件车向前继续运动至所述第三真空仓,靶材放置在所述坩埚中,通过加热所述坩埚,同时用气体放电型大功率电子枪轰击所述靶材进行电子束蒸发镀膜,被镀基材表面完成镀层处理,冷却出仓。
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