[发明专利]一种微弧氧化方法及采用此方法所得钛合金结构件

权利要求书

1.一种微弧氧化方法，其特征在于，该微弧氧化方法包括以下步骤：

步骤一、将待氧化的钛合金结构件分成M段待氧化区域，M取大于等于2的自然数；

步骤二、将第N段待氧化区域和第N+1段待氧化区域的交接处设置保护装置进行保护，N取大于等于1且小于等于总段数M的自然数；或者是，将相邻两段待氧化区域的交接处同时设置保护装置进行保护，所述保护装置设置在电解液-工件-空气三界面处；

步骤三、将待氧化的钛合金结构件的第N段待氧化区域置于电解液中进行微弧氧化处理；

步骤四、拆除已氧化区域和待氧化区域之间所设置的保护装置；取N=N+1，若N小于等于M，则返回步骤二或步骤三；否则，进入下一步；

步骤五、得到微弧氧化钛合金结构件；

所述保护装置包括涂覆层和蒙皮，所述蒙皮设置在涂覆层外。

2.根据权利要求1所述的微弧氧化方法，其特征在于，钛合金结构件的氧化面积大于等于4平方米。

3.根据权利要求1所述的微弧氧化方法，其特征在于，所述步骤三中的电解液成分如下：硅酸钠20-100g/L，多聚磷酸钠10-50g/L，柠檬酸三钠1-20g/L，碳酸钠1-25g/L，去离子水余量，电解液pH值为7-14。

4.根据权利要求3所述的微弧氧化方法，其特征在于，所述步骤三中的电解液成分如下：硅酸钠40-80g/L，多聚磷酸钠20-40g/L，柠檬酸三钠5-15g/L，碳酸钠5-15g/L，去离子水余量，电解液pH值为9-13。

5.根据权利要求4所述的微弧氧化方法，其特征在于，所述步骤三中的电解液成分如下：硅酸钠50-60g/L，多聚磷酸钠25-35g/L，柠檬酸三钠5-12g/L，碳酸钠10-12g/L，去离子水余量，电解液pH值为10-13。

6.根据权利要求1所述的微弧氧化方法，其特征在于，所述步骤三中采用正恒流、负恒压的模式进行微弧氧化处理；正向电流设定为50-300A，频率设定为500-1200Hz，占空比设定为5-50%，氧化电压设定为不高于600V，微弧氧化时间为3-40min。

7.根据权利要求6所述的微弧氧化方法，其特征在于，所述步骤三中采用正恒流、负恒压的模式进行微弧氧化处理；正向电流设定为80-200A，频率设定为600-900Hz，占空比设定为10-28%，氧化电压设定为不高于500V，微弧氧化时间为8-30min。

8.根据权利要求7所述的微弧氧化方法，其特征在于，所述步骤三中：正向电流设定为150-180A，频率设定为800-900Hz，占空比设定为15-20%，氧化电压设定为不高于450V，微弧氧化时间为15-20min。

9.根据权利要求1-8任意一项所述的微弧氧化方法，其特征在于，所述涂覆层的材质为酚醛树脂、聚氨酯及二氧化硅中的一种；所述蒙皮为钛板材。

10.一种钛合金结构件，其特征在于，采用如权利要求1-9任意一项所述的微弧氧化方法进行加工。