[发明专利]一种TMAH系各向异性硅蚀刻液及其制备方法有效

专利信息
申请号: 201911250769.8 申请日: 2019-12-09
公开(公告)号: CN111440613B 公开(公告)日: 2022-03-25
发明(设计)人: 胡涛;邢攸美;高立江;王小眉;李玉兴;王小栋;尹云舰;方伟华;施珂 申请(专利权)人: 杭州格林达电子材料股份有限公司
主分类号: C09K13/00 分类号: C09K13/00
代理公司: 北京志霖恒远知识产权代理事务所(普通合伙) 11435 代理人: 奚丽萍
地址: 311228 浙江*** 国省代码: 浙江;33
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摘要:
搜索关键词: 一种 tmah 各向异性 蚀刻 及其 制备 方法
【权利要求书】:

1.一种TMAH系各向异性硅蚀刻液,其特征在于,包括18~25%重量份的电子级四甲基氢氧化铵,8~10%重量份的电子级四乙基氢氧化铵,1.3~2.8%重量份的添加剂,0.01~0.2%重量份的表面活性剂和剩余组分的纯水,上述各组分重量份总和为100%重量份,其中所述添加剂包括1~2%重量份的挥发剂和0.3~0.8%的催化剂,所述催化剂包括0.1~0.3%重量份的调整蚀刻速度的催化剂,0.2~0.5%重量份的改善硅表面平整度的催化剂;其中,所述调整蚀刻速度的催化剂为吡嗪和哌嗪中的至少一种,所述改善硅表面平整度的催化剂为过硫酸铵;所述挥发剂为异丙醇。

2.根据权利要求1所述的TMAH系各向异性硅蚀刻液,其特征在于,所述表面活性剂为脂肪醇聚氧乙烯醚非离子表面活性剂,其分子式为R-O-(CH2CH2O)nH,所述脂肪醇聚氧乙烯醚非离子表面活性剂的R=C12,n=9。

3.一种如权利要求1所述的TMAH系各向异性硅蚀刻液的制备方法,其特征在于,包括以下步骤:

(1)按比例在混配釜中加入电子级四甲基氢氧化铵;

(2)在不断搅拌的条件下,按比例加入电子级四乙基氢氧化铵;

(3)在不断搅拌的条件下,按比例加入添加剂、表面活性剂和余量水,并循环3h以上;

(4)将混合液体采用过滤器进行过滤后得到TMAH系各向异性硅蚀刻液。

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