[发明专利]一种TMAH系各向异性硅蚀刻液及其制备方法有效
申请号: | 201911250769.8 | 申请日: | 2019-12-09 |
公开(公告)号: | CN111440613B | 公开(公告)日: | 2022-03-25 |
发明(设计)人: | 胡涛;邢攸美;高立江;王小眉;李玉兴;王小栋;尹云舰;方伟华;施珂 | 申请(专利权)人: | 杭州格林达电子材料股份有限公司 |
主分类号: | C09K13/00 | 分类号: | C09K13/00 |
代理公司: | 北京志霖恒远知识产权代理事务所(普通合伙) 11435 | 代理人: | 奚丽萍 |
地址: | 311228 浙江*** | 国省代码: | 浙江;33 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 tmah 各向异性 蚀刻 及其 制备 方法 | ||
1.一种TMAH系各向异性硅蚀刻液,其特征在于,包括18~25%重量份的电子级四甲基氢氧化铵,8~10%重量份的电子级四乙基氢氧化铵,1.3~2.8%重量份的添加剂,0.01~0.2%重量份的表面活性剂和剩余组分的纯水,上述各组分重量份总和为100%重量份,其中所述添加剂包括1~2%重量份的挥发剂和0.3~0.8%的催化剂,所述催化剂包括0.1~0.3%重量份的调整蚀刻速度的催化剂,0.2~0.5%重量份的改善硅表面平整度的催化剂;其中,所述调整蚀刻速度的催化剂为吡嗪和哌嗪中的至少一种,所述改善硅表面平整度的催化剂为过硫酸铵;所述挥发剂为异丙醇。
2.根据权利要求1所述的TMAH系各向异性硅蚀刻液,其特征在于,所述表面活性剂为脂肪醇聚氧乙烯醚非离子表面活性剂,其分子式为R-O-(CH2CH2O)nH,所述脂肪醇聚氧乙烯醚非离子表面活性剂的R=C12,n=9。
3.一种如权利要求1所述的TMAH系各向异性硅蚀刻液的制备方法,其特征在于,包括以下步骤:
(1)按比例在混配釜中加入电子级四甲基氢氧化铵;
(2)在不断搅拌的条件下,按比例加入电子级四乙基氢氧化铵;
(3)在不断搅拌的条件下,按比例加入添加剂、表面活性剂和余量水,并循环3h以上;
(4)将混合液体采用过滤器进行过滤后得到TMAH系各向异性硅蚀刻液。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于杭州格林达电子材料股份有限公司,未经杭州格林达电子材料股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201911250769.8/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。