[发明专利]具有平凹形结构薄膜的高显色性激光照明用荧光陶瓷及其制备方法在审
申请号: | 201911251985.4 | 申请日: | 2019-12-09 |
公开(公告)号: | CN113024251A | 公开(公告)日: | 2021-06-25 |
发明(设计)人: | 李东升;张攀德;叶勇;王红;曾庆兵;李春晖;王盛 | 申请(专利权)人: | 上海航空电器有限公司 |
主分类号: | C04B35/505 | 分类号: | C04B35/505;C04B35/622;C04B41/83;C09K11/77;C04B41/53 |
代理公司: | 上海世圆知识产权代理有限公司 31320 | 代理人: | 顾俊超 |
地址: | 201101 *** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 具有 凹形 结构 薄膜 显色性 激光 照明 荧光 陶瓷 及其 制备 方法 | ||
1.具有平凹形结构薄膜的高显色性激光照明用荧光陶瓷,其特征在于,包含有,陶瓷本体,其化学组成为:(CexY1-x)3Al5O12,其中,x的取值范围为:0.001≤x≤0.03,所述陶瓷本体的顶面上布置有平凸形隆起部;以及,
薄膜层体,其覆盖于所述陶瓷本体的顶面,所述薄膜层体的底面上布置有与所述平凸形隆起部对应的平凹形凹陷部,所述平凹形凹陷部与所述平凸形隆起部相配合,并且,所述薄膜层体的内部分布有红色的荧光粉体。
2.根据权利要求1所述的具有平凹形结构薄膜的高显色性激光照明用荧光陶瓷,其特征在于,所述薄膜层体的成分为SiO2、环氧树脂、透明硅胶中的一种、任意两种或全部。
3.根据权利要求1或2所述的具有平凹形结构薄膜的高显色性激光照明用荧光陶瓷,其特征在于,所述薄膜层体的厚度为100-300μm。
4.根据权利要求1所述的具有平凹形结构薄膜的高显色性激光照明用荧光陶瓷,其特征在于,所述荧光粉体的化学组成为:(EuyY1-y)3Al5O12,其中,y的取值范围为:0.0005≤y≤0.04。
5.根据权利要求1所述的具有平凹形结构薄膜的高显色性激光照明用荧光陶瓷,其特征在于,所述平凹形凹陷部中,距离所述陶瓷本体的中心越近的所述平凹形凹陷部的直径越大且深度越大。
6.根据权利要求4所述的具有平凹形结构薄膜的高显色性激光照明用荧光陶瓷,其特征在于,所述平凹形凹陷部的直径为20-150μm,深度为10-50μm。
7.根据权利要求1所述的具有平凹形结构薄膜的高显色性激光照明用荧光陶瓷,其特征在于,所述荧光粉体的激发波长为440-500nm,发射波长为590-650nm,粉体粒径为2-20μm。
8.具有平凹形结构薄膜的高显色性激光照明用荧光陶瓷的制备方法,用于制备权利要求1至7中任意一项所述的荧光陶瓷,其特征在于,包含有以下步骤,
步骤S1,以CeO2、Y2O3、Al2O3为原料,按所述陶瓷化学组成(CexY1-x)3Al5O12配置所述陶瓷粉体原料,其中,x的取值范围为:0.001≤x≤0.03;
步骤S2,使用湿法球磨,以无水乙醇作为分散介质,球磨6-20h后干燥;
步骤S3,将干燥后的粉体使用模具施以5-10MPa的压力成型获得陶瓷素坯;
步骤S4,将所述陶瓷素坯施以150-250MPa冷等静压,形成致密的陶瓷素坯;
步骤S5,将所述致密的陶瓷素坯放入真空烧结炉1500-1800℃,4-20h保温后,经退火得到陶瓷本体;
步骤S6,将所述陶瓷本体加工至目标规格后,使用激光雕刻或化学刻蚀方法获得所述平凸形隆起部;
步骤S7,将红色的荧光粉体均匀地分散在薄膜层体的原料中,其中,所述薄膜层体的原料由SiO2、环氧树脂、透明硅胶等中的一种、任意两种或全部,所述红色的荧光粉体与所述薄膜层体的原料的质量比为m,m的取值范围为:0.01≤m≤0.1;以及,
步骤S8,经喷涂、涂布、滚刷,丝网印刷方式将混合后的原料涂覆后加热干燥或高温熔融在所述陶瓷本体的顶面形成所述薄膜层体,厚度为100-300μm。
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