[发明专利]一种测定土壤微生物趋化性芯片的制备方法

权利要求书

1.一种测定土壤微生物趋化性芯片的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：

1)将含有微腔室、通道和混合区的芯片进行打印，得到光刻掩膜；

2)将光刻胶置于硅片中心后依次进行匀胶、第一烘干，得到匀好胶的硅片，将所述步骤1)得到的光刻掩膜与匀好胶的硅片的外边框对准后进行紫外曝光，得到曝光硅片，将所述曝光硅片进行第二烘干后用有机试剂PEGEMEA显影，再烘干坚模，得到阳模；

3)将PDMS预聚体和固化剂混合后，置于步骤2)得到的阳模上，静置后进行固化，得到PDMS印章；

4)将所述步骤3)得到的PDMS印章进行表面亲水化改性处理，得到处理印章，将趋化剂加入到处理印章的微腔室后，与载玻片贴合，得到测定土壤微生物趋化性芯片；

所述载玻片的表面经过亲水化改性处理；

所述步骤1)每两个微腔室通过一个通道进行连接，得到连接微腔室，每两个连接微腔室通过一个通道连接一个混合区；

所述微腔室的直径为2mm～3mm；

所述通道的直径为0.3mm～0.8mm；

所述混合区的长度为6mm～7mm，所述混合区的宽度为2mm～4mm。

2.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，所述步骤2)光刻胶包括光刻胶SU-8。

3.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，所述步骤2)匀胶包括：先800rpm～1000rpm处理5s～15s，再1200rpm～1800rpm处理20s～40s。

4.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，所述步骤2)第一烘干包括：先60℃～70℃处理10min～20min，再90℃～100℃处理1h～2h。

5.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，所述步骤2)紫外照射的时间为6～8s。

6.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，所述步骤2)第二烘干包括：先60℃～70℃处理4min～6min，再90℃～100℃处理40min～50min。

7.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，所述步骤3)PDMS预聚体和固化剂的质量比为10～15:1。

8.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，所述步骤3)静置的时间为15min～25min，所述固化的温度为60℃～70℃，所述固化的时间为2h～4h。

9.权利要求1所述的制备方法得到的芯片在测定土壤微生物趋化性中的应用，其特征在于，能够原位、定量和可视化测定土壤微生物趋化性。