[发明专利]跟踪系统和待由跟踪系统跟踪的标记装置

权利要求书

1.一种待跟踪的标记装置，其中，所述标记装置(1；101；201；301；401)包括：

-壳体(2)，

-磁性物体(3；303)，所述磁性物体被布置在所述壳体(2)内，使得如果外部磁转矩作用于所述磁性物体(3；303)上，则所述磁性物体能够旋转离开平衡取向，

-复位转矩单元(4；104；204；304；404，405)，所述复位转矩单元适于在外部磁转矩已经使所述磁性物体(3；303)旋转离开所述平衡取向的情况下提供复位转矩以迫使所述磁性物体(3；303)回到所述平衡取向，以便允许由所述外部磁转矩激励的所述磁性物体(3；303)的旋转振荡。

2.根据权利要求1所述的标记装置，其中，所述复位转矩单元(204；304；404，405)包括用于提供所述复位转矩的扭转弹簧机构和/或另一磁性物体(4；104；405)。

3.根据权利要求2所述的标记装置，其中，所述标记装置适于使得如果外部磁转矩作用于所述另一磁性物体上，则所述另一磁性物体能够旋转离开平衡取向，其中所述复位转矩单元适于还提供复位转矩，以在外部磁转矩已经使所述另一磁性物体旋转离开所述平衡取向的情况下迫使所述另一磁性物体回到所述平衡取向，以便允许由所述外部磁转矩激励的所述另一磁性物体的旋转振荡，其中所述磁性物体和所述另一磁性物体的所述旋转振荡具有相同的谐振频率和180度的相位差。

4.根据前述权利要求中的任一项所述的标记装置，其中，所述标记装置(1；101；201；301；401)适于满足以下列表中的至少一个条件：i)至少100的Q因数、ii)至少0.5μAm²的动态偶极矩和iii)至少100Hz的谐振频率。

5.一种由多个根据前述权利要求中的任一项所述的标记装置形成的套件，其中所述套件中的每个标记装置具有不透射线材料，其中所述标记装置中的至少两个标记装置的所述不透射线材料和所述谐振频率彼此不同。

6.一种用于跟踪根据权利要求1至4中的任一项所述的标记装置(1；101；201；301；401)的跟踪系统，其中，所述跟踪系统包括：

-激励和感应信号单元(20，31)，所述激励和感应信号单元适于a)生成提供磁转矩的磁场，所述磁转矩用于使所述标记装置(1；101；201；301；401)的所述磁性物体(3；303)旋转离开其平衡取向并且由此激励所述磁性物体(3；303)的旋转振荡和b)生成由所述磁性物体(3；303)的所述旋转振荡引起的感应信号，

-位置确定单元(33)，所述位置确定单元适于基于所生成的感应信号来确定所述标记装置(1；101；201；301；401)相对于所述跟踪系统的位置。

7.根据权利要求6所述的跟踪系统，其中，所述位置确定单元(33)还适于基于所述感应信号来确定所述标记装置(1；101；201；301；401)相对于所述跟踪系统的取向。

8.根据权利要求6和7中的任一项所述的跟踪系统，其中，所述跟踪系统适于确定多个根据权利要求1至4中的任一项所述的标记装置(1；101；201；301；401)的位置，多个所述标记装置(1；101；201；301；401)的所述磁性物体(3；303)能够以不同的谐振频率旋转振荡，使得不同的标记装置(1；101；201；301；401)的感应信号具有不同的频率，所述位置确定单元(33)适于基于所生成的具有不同频率的感应信号来确定所述标记装置(1；101；201；301；401)的位置。

9.根据权利要求6至8中的任一项所述的跟踪系统，其中，所述标记装置(1；101；201；301；401)位于受试者(22)内，其中，所述位置确定单元(33)适于确定所述受试者(22)的表面上的最近位置，所述最近位置是所述受试者(22)的所述表面上的最接近所述标记装置(1；101；201；301；401)的位置的位置，和/或所述标记装置的位置在所述受试者的所述表面上的在预定义方向上的投影。