[发明专利]一种MoS2

权利要求书

1.一种MoS₂-SnS₂纳米片的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：

步骤一、将钼酸铵、氯化锡溶解于水中，得到溶液；

步骤二、将P123加入到步骤一所述溶液中，搅拌均匀，得到悬浊液；

步骤三、将次氯酸钾加入到步骤二所述悬浊液中，搅拌使混合均匀；

步骤四、将步骤三混合后体系置于水热条件下反应；

步骤五、过滤，得到截留物，将截留物用气流磨研磨，得到MoS₂-SnS₂纳米片。

2.根据权利要求1所述的一种MoS₂-SnS₂纳米片的制备方法，其特征在于，步骤一所述钼酸铵与氯化锡的物质的量之比1：(1～3)。

3.根据权利要求1所述的一种MoS₂-SnS₂纳米片的制备方法，其特征在于，步骤四所述水热条件的温度为80℃～100℃，水热的时间为12h～24h。

4.根据权利要求1所述的一种MoS₂-SnS₂纳米片的制备方法，其特征在于，步骤五所述研磨的时间为4h～10h。