[发明专利]搬送方法及搬送系统

说明书

示例性实施方式所涉及的搬送方法包括：通过搬送装置将聚焦环搬送至工作台上的步骤；将测量仪搬送至已搬送的聚焦环的内侧区域的静电卡盘上的步骤；通过所搬送的测量仪获取测量值组的步骤；根据测量值组求出第1偏移量及第2偏移量的步骤；根据第1偏移量及第2偏移量求出聚焦环的中心位置相对于静电卡盘的中心位置的偏移量即第3偏移量的步骤；及通过搬送装置根据第3偏移量调整聚焦环的搬送位置以使静电卡盘的中心位置与聚焦环的中心位置一致的步骤。

技术领域

本发明的示例性实施方式涉及一种搬送方法及搬送系统。

背景技术

日本特开2006-196691号公报中记载了一种半导体制造装置。该装置具备基板处理室、聚焦环备用室及搬送机构。基板处理室的内侧配置有电极。电极上配置有基板。聚焦环备用室容纳多个聚焦环。搬送机构在不对大气开放基板处理室的情况下将容纳于聚焦环备用室中的聚焦环搬送至基板处理室。聚焦环配置成包围载置于电极上的基板的周围。

发明内容

在一示例性实施方式中，提供一种搬送方法。搬送方法为聚焦环的搬送系统中的搬送方法，搬送系统包括处理系统和测量仪。处理系统包括处理装置和搬送装置。处理装置具有腔室主体及设置于由该腔室主体提供的腔室内的包括静电卡盘的工作台。搬送装置根据搬送位置数据将被加工物搬送至被配置于工作台上的聚焦环包围的内侧区域的静电卡盘上。测量仪具备获取用于在该测量仪位于内侧区域的静电卡盘上的状态下求出测量仪的中心位置相对于聚焦环的中心位置的偏移量即第1偏移量及测量仪的中心位置相对于静电卡盘的中心位置的偏移量即第2偏移量的测量值组的传感器。该方法包括：通过搬送装置将聚焦环搬送至工作台上的步骤；通过搬送装置将测量仪搬送至已搬送的聚焦环的内侧区域的静电卡盘上的步骤；通过所搬送的测量仪获取测量值组的步骤；根据测量值组求出第1偏移量及第2偏移量的步骤；根据第1偏移量及第2偏移量求出聚焦环的中心位置相对于静电卡盘的中心位置的偏移量即第3偏移量的步骤；及通过搬送装置根据第3偏移量调整聚焦环的搬送位置以使静电卡盘的中心位置与聚焦环的中心位置一致的步骤。

附图说明

图1是例示出处理系统的图。

图2是例示出对准器的立体图。

图3是表示等离子体处理装置的一例的图。

图4是表示从上表面侧观察一例的测量仪的俯视图。

图5是表示从底面侧观察一例的测量仪的俯视图。

图6是表示第1传感器的一例的立体图。

图7是沿图6的VII-VII线拍摄的剖视图。

图8是图5的第2传感器的放大图。

图9是例示出测量仪的电路基板的结构的图。

图10是示意地表示聚焦环和测量仪的位置关系的一例的图。

图11是示意地表示静电卡盘的剖视图。

图12是示意地表示静电卡盘和测量仪的位置关系的一例的剖视图。

图13是表示重叠长度和测量值的关系的一例的曲线图。

图14是示意地表示静电卡盘和测量仪的位置关系的一例的图。

图15是示意地表示静电卡盘、聚焦环及测量仪的位置关系的一例的图。

图16是表示搬送聚焦环的方法的一例的流程图。

具体实施方式

以下，对各种示例性实施方式进行说明。