[发明专利]一种用于重掺锑直拉单晶硅的掺杂装置及掺杂方法有效

专利信息
申请号: 201911264374.3 申请日: 2019-12-10
公开(公告)号: CN112941617B 公开(公告)日: 2022-09-09
发明(设计)人: 王万华;李超;郑沉;崔彬;李英涛;方峰 申请(专利权)人: 有研半导体硅材料股份公司
主分类号: C30B15/04 分类号: C30B15/04;C30B29/06
代理公司: 北京北新智诚知识产权代理有限公司 11100 代理人: 刘秀青
地址: 101300 北京*** 国省代码: 北京;11
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摘要:
搜索关键词: 一种 用于 重掺锑直拉 单晶硅 掺杂 装置 方法
【权利要求书】:

1.一种用于重掺锑直拉单晶硅的掺杂装置,其特征在于,该掺杂装置由透明的石英玻璃制成,包括固定支架、盛锑的石英杯和底托;

所述固定支架包括固定环和连接杆,该固定环为圆形,固定环上设有缺口,并通过该缺口插接固定在籽晶夹头上方;

所述石英杯的上部为圆筒形,下部为漏斗形且由五个小漏斗构成;所述石英杯的上端开口,下端在每个小漏斗底部设有通孔;

所述底托由四根圆柱形石英棒构成,各个石英棒相互对称地连接在石英杯的外壁上;

所述底托的石英棒下端与石英杯下端之间的距离为30mm。

2.根据权利要求1所述的用于重掺锑直拉单晶硅的掺杂装置,其特征在于,所述石英杯的圆筒形部分的外径为100mm,内径为94mm,高度为100mm。

3.根据权利要求1所述的用于重掺锑直拉单晶硅的掺杂装置,其特征在于,所述通孔直径为2mm。

4.一种使用权利要求1所述的掺杂装置生产重掺锑直拉单晶硅的掺杂方法,其特征在于,包括以下步骤:

(1)熔化的多晶硅在20~22Torr压力,气体流量为59~61slpm,一定温度下稳定2h;

(2)关闭隔离阀隔开上、下炉室,上炉室充气到720~740Torr打开;

(3)将掺杂装置通过缺口插入法固定在籽晶夹头上方,关闭炉门进行净化;

(4)净化完毕后,打开隔离阀将上、下炉室连通,调整炉室压力为70~80Torr,气体流量为50~60slpm,晶转0rpm,埚转1rpm;

(5)下降掺杂装置,等到石英棒下端刚刚要接触液面时进行掺杂;

(6)掺杂完毕后,上升掺杂装置至上炉室,关闭隔离阀并将上炉室充到720~740Torr打开,取下掺杂装置;净化上炉室后进行拉晶。

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