[发明专利]离子源及其清洁方法在审
| 申请号： | 201911265284.6 | 申请日： | 2019-12-11 |
| 公开（公告）号： | CN111640639A | 公开（公告）日： | 2020-09-08 |
| 发明（设计）人： | 足立昌和;平井裕也;谷口智哉 | 申请（专利权）人： | 日新离子机器株式会社 |
| 主分类号： | H01J37/08 | 分类号： | H01J37/08;H01J37/32 |
| 代理公司： | 中原信达知识产权代理有限责任公司 11219 | 代理人： | 季莹;方应星 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 离子源 及其 清洁 方法 | ||
【权利要求书】：
1.一种离子源，向配置在等离子体容器下游的抑制电极照射由清洁气体生成的离子束来清洁抑制电极，其中，
所述离子源具有驱动机构，该驱动机构调整所述等离子体容器与所述抑制电极之间的距离，
所述离子源包括控制装置，该控制装置在进行清洁之前，控制所述驱动机构而使所述抑制电极向第一方向移动，扩大所述等离子体容器与所述抑制电极之间的距离。
2.根据权利要求1所述的离子源，其中，
所述控制装置基于所述抑制电极的电位或流过所述抑制电极的电流来确定是否继续进行清洁。
3.根据权利要求1或2所述的离子源，其中，
在所述抑制电极的清洁过程中或在进行清洁之前，
所述控制装置控制所述驱动机构而使所述抑制电极向与所述第一方向正交的第二方向移动。
4.根据权利要求1或2所述的离子源，其中，
在所述抑制电极的清洁过程中或在进行清洁之前，
所述控制装置控制所述驱动机构而使所述抑制电极绕与所述第一方向正交的第三方向旋转。
5.一种离子源的清洁方法，向配置在等离子体容器下游的抑制电极照射由清洁气体生成的离子束，来进行抑制电极的清洁，其中，
在进行清洁之前，使所述抑制电极向第一方向移动，扩大所述等离子体容器与所述抑制电极之间的距离。
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