[发明专利]一种样品结构及其制作方法、入射空间角标定方法

权利要求书

1.一种样品结构，其特征在于，应用在反射式照明方式的扫描近场光学显微镜中，所述样品结构包括：

衬底；

位于衬底上的金属薄膜；

位于所述金属薄膜内或位于所述金属薄膜上的纳米结构。

2.根据权利要求1所述的样品结构，其特征在于，所述纳米结构为位于所述金属薄膜内且贯穿所述金属薄膜的纳米单缝、位于所述金属薄膜内且未贯穿所述金属薄膜的纳米凹槽；或位于所述金属薄膜上的纳米凸台。

3.根据权利要求1所述的样品结构，其特征在于，当所述纳米结构为位于所述金属薄膜内的纳米单缝时，所述纳米单缝的长度为10μm-500μm，包括端点值；所述纳米单缝的宽度为100nm-1μm，包括端点值。

4.根据权利要求3所述的样品结构，其特征在于，所述纳米单缝的长度为20μm-40μm，包括端点值；所述纳米单缝的宽度为100nm-200nm，包括端点值。

5.根据权利要求1所述的样品结构，其特征在于，所述金属薄膜的材质为金、银或铜。

6.根据权利要求1所述的样品结构，其特征在于，所述金属薄膜的厚度为10nm-500nm，包括端点值。

7.根据权利要求1所述的样品结构，其特征在于，所述衬底的材质包括硅片或石英片。

8.一种样品结构制作方法，其特征在于，包括：

提供衬底；

在所述衬底表面形成金属薄膜层；

对所述金属薄膜层进行加工，形成纳米结构。

9.根据权利要求8所述的样品结构制作方法，其特征在于，所述在所述衬底表面形成金属薄膜层，具体包括：

在清洁后的衬底表面沉积一层金属薄膜层；

其中，沉积方法包括磁控溅射镀膜，或真空热蒸发镀膜，或电子束蒸发镀膜。

10.一种散射式扫描近场光学显微镜入射光空间角标定方法，其特征在于，包括：

提供样品结构，所述样品结构为权利要求1-7任意一项所述的样品结构，所述样品结构包括纳米结构；

采用倾斜的偏振光照射所述样品结构上的纳米结构，产生表面等离子体激元；

获取所述表面等离子体激元的干涉条纹周期；

计算得到入射光与所述样品结构表面法线方向的夹角，确定入射光空间角。