[发明专利]一种仿生非光滑耐磨涂层及其制备方法和应用有效
申请号: | 201911267963.7 | 申请日: | 2019-12-11 |
公开(公告)号: | CN112940621B | 公开(公告)日: | 2022-11-11 |
发明(设计)人: | 谷红宇;宋力昕;张锦麟;吕少波;张涛 | 申请(专利权)人: | 中国科学院上海硅酸盐研究所 |
主分类号: | C09D183/08 | 分类号: | C09D183/08;C08J7/046;B05D5/08;B05D7/24;C08L79/08 |
代理公司: | 上海瀚桥专利代理事务所(普通合伙) 31261 | 代理人: | 曹芳玲;郑优丽 |
地址: | 200050 *** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 仿生 光滑 耐磨 涂层 及其 制备 方法 应用 | ||
1.一种仿生非光滑耐磨涂层的制备方法,其特征在于,将含有多官能度有机硅的有机硅溶液涂覆在基底表面,再经过初步干燥处理、水解处理和固化处理,得到所述仿生非光滑耐磨涂层;所述多官能度有机硅包含三硅官能度有机硅和二硅官能度有机硅;所述多官能度有机硅中二硅官能度有机硅的含量为7~70wt%;
所述三硅官能度有机硅选自3-氨丙基三乙氧基硅烷、3-氨丙基三甲氧基硅烷、N-氨乙基-3-氨丙基三乙氧基硅烷、N-(2-氨乙基)-3-氨丙基三甲氧基硅烷和3-异氰酸酯基丙基三甲氧基硅烷中的至少一种;所述二硅官能度有机硅选自3-氨丙基二乙氧基甲基硅烷、氨丙基甲基二甲氧基硅烷、N-氨乙基-3-氨丙基甲基二甲氧基硅烷和3-异氰酸酯基丙基甲基二甲氧基硅烷中的至少一种;
所述基底为柔性基板或带有原子氧防护层的柔性基板;所述柔性基板选自聚酰亚胺类;
所述初步干燥处理的温度为100℃,时间为2~240小时,干燥气氛的湿度为30%~80%RH;所述水解处理的温度为15~60℃,时间为2~240小时,气氛为空气气氛,气氛的湿度为45%~95%RH;所述固化处理的温度为100℃~300℃,时间为3~24小时;
所述仿生非光滑耐磨涂层具有类生物体减阻耐磨非光滑表面的仿生结构,所述仿生结构为凹凸表面。
2.根据权利要求1所述的制备方法,其特征在于,所述有机硅溶液还包含溶剂,所述溶剂选自乙醇、异丙醇、丁醇、N,N-二甲基甲酰胺、N,N-二甲基乙酰胺、N-甲基吡咯烷酮、四氢呋喃中的至少一种;所述溶剂的加入量为不超过95wt%。
3.根据权利要求2所述的制备方法,其特征在于,所述溶剂的加入量为60~90wt%。
4.根据权利要求1-3中任一项所述的制备方法,其特征在于,所述有机硅溶液还包含添加剂,所述添加剂选自可溶聚酰亚胺类物质;所述添加剂的加入量为不超过20wt%。
5.根据权利要求4所述的制备方法,其特征在于,所述添加剂选自可溶PI 微粉和 PI溶液中的至少一种;所述添加剂的加入量为0.5~5wt%。
6.根据权利要求1-3中任一项所述的制备方法,其特征在于,所述固化处理的温度为100℃~150℃,时间为5~12小时。
7.一种根据权利要求1-6中任一项所述的制备方法制备的仿生非光滑耐磨涂层,其特征在于,所述仿生非光滑耐磨涂层具有类生物体减阻耐磨非光滑表面的仿生结构,所述仿生结构为凹凸表面。
8.根据权利要求7所述的制备方法制备的仿生非光滑耐磨涂层,其特征在于,所述仿生结构为山脊和沟槽状的凹凸表面或为凸包型的凹凸表面。
9.一种如权利要求7所述的仿生非光滑耐磨涂层在柔性太阳电池中的应用。
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