[发明专利]化学增幅型正型感光性树脂组成物及其应用有效

专利信息
申请号: 201911268402.9 申请日: 2019-12-11
公开(公告)号: CN111381438B 公开(公告)日: 2023-06-20
发明(设计)人: 刘骐铭;施俊安 申请(专利权)人: 奇美实业股份有限公司
主分类号: G03F7/004 分类号: G03F7/004;G03F7/039
代理公司: 北京中原华和知识产权代理有限责任公司 11019 代理人: 孙磊;寿宁
地址: 中国台湾台南*** 国省代码: 暂无信息
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摘要:
搜索关键词: 化学 增幅 型正型 感光性 树脂 组成 及其 应用
【权利要求书】:

1.一种化学增幅型正型感光性树脂组成物,其特征在于,该化学增幅型正型感光性树脂组成物包含:

树脂(A);

光酸产生剂(B);以及

溶剂(C),

其中,该树脂(A)是由混合物所共聚合而得,该混合物包括聚合性单体以及具有下式(2)的结构的硫醇化合物,而该聚合性单体包括不饱和羧酸单体(a-1)、含式(1)的酸解离性基的单体(a-2)以及单体(a-1)、单体(a-2)以外的其他不饱和单体(a-3):

于该式(1)中,该R1和该R2各自独立为氢原子、烷基、脂环式烃基或芳基,其中该烷基、该脂环式烃基或该芳基所具有的氢原子的一部分或全部可被取代;而且,该R1及该R2不可同时为氢原子;该R3为烷基、脂环式烃基、芳烷基或者芳基;其中该R3的该烷基、该脂环式烃基、该芳烷基及该芳基所具有的氢原子的一部分或全部可被取代;该R1与该R3可相互键结而与该R1所键结的碳原子以及该R3所键结的氧原子一起形成环状醚结构;

X-R4-SH                式(2)

于该式(2)中,X表示酯基、羟基、胺基或烷氧基硅烷基,且该R4表示经取代或未经取代的伸烷基或伸芳基。

2.如权利要求1所述的化学增幅型正型感光性树脂组成物,其特征在于,该其他不饱和单体(a-3)包括含环氧基的不饱和单体(a-3-1)。

3.如权利要求1所述的化学增幅型正型感光性树脂组成物,其特征在于,该光酸产生剂(B)为包含下列式(3)的具有肟磺酸酯基的化合物:

于该式(3)中,该R5为碳数为1至20的烷基、脂环式烃基、芳基,或是上述基团所具有的氢原子被部分或全部取代的基团,以及该*为键结处。

4.如权利要求1所述的化学增幅型正型感光性树脂组成物,其特征在于,基于该树脂(A)的总使用量为100重量份,该光酸产生剂(B)的使用量为0.2重量份至5重量份,以及,该溶剂(C)的使用量为100重量份至1500重量份。

5.如权利要求1所述的化学增幅型正型感光性树脂组成物,其特征在于,基于该聚合性单体的总使用量为100重量份,该不饱和羧酸单体(a-1)的使用量为1重量份至50重量份,该含式(1)的酸解离性基的单体(a-2)的使用量为5重量份至90重量份,该其他不饱和单体(a-3)的使用量为5重量份至94重量份,以及该具有式(2)的结构的硫醇化合物使用量为1重量份至15重量份。

6.如权利要求2所述的化学增幅型正型感光性树脂组成物,其特征在于,基于该聚合性单体的总使用量为100重量份,该含环氧基的不饱和单体(a-3-1)的使用量为5重量份至80重量份。

7.一种保护膜,其特征在于,该保护膜是将如权利要求1至6的任一项所述的化学增幅型正型感光性树脂组成物涂布于基材上,再经预烤、曝光、显影及后烤处理后所形成。

8.一种具有保护膜的组件,其特征在于,该组件包含基材以及如权利要求7所述的保护膜。

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