[发明专利]一种高效除硅装置在审
申请号: | 201911268726.2 | 申请日: | 2019-12-11 |
公开(公告)号: | CN111115779A | 公开(公告)日: | 2020-05-08 |
发明(设计)人: | 李亮;高继荣;张文;张建宁;孙学梅;李嘉;刘强 | 申请(专利权)人: | 陕西航天机电环境工程设计院有限责任公司 |
主分类号: | C02F1/52 | 分类号: | C02F1/52;C02F101/10 |
代理公司: | 西安智邦专利商标代理有限公司 61211 | 代理人: | 屠沛 |
地址: | 710100 陕西省西安*** | 国省代码: | 陕西;61 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 高效 装置 | ||
本发明提供一种高效除硅装置,解决现有装置中药剂利用率较低、混凝絮凝池和中心导流筒池底积泥严重,影响系统正常运行的问题。其包括混凝絮凝池、中心导流筒、中心导流筒邻区、沉淀池、T型斜板、反冲洗单元以及溢流管;T型斜板包括横板以及一端连接在横板中部的连接杆;连接杆的另一端设置在混凝絮凝池内搅拌机的搅拌轴上,并与搅拌轴之间呈45°~75°夹角;反冲洗单元包括水泵、风机以及穿孔曝气管;穿孔曝气管设置在混凝絮凝池的池底以及中心导流筒邻区内;水泵和风机均通过连通管道与穿孔曝气管相连,并通过穿孔曝气管对混凝絮凝池以及中心导流筒邻区进行水洗及风洗;混凝絮凝池上部开设有第一通孔,中心导流筒邻区侧壁上开设有第二通孔。
技术领域
本发明涉及水处理设备,具体涉及一种高效除硅装置,用于去除高盐水中的二氧化硅。
背景技术
高密池是高含盐水除硅工艺不可缺少的重要处理单元,除硅效果的好坏直接影响后续膜系统和蒸发结晶系统是否堵塞,对整个系统运行是否可靠至关重要。来水先进入混凝絮凝池,通过投加偏铝酸钠进行反应,继续投加絮凝剂聚铝(PAC)形成矾花,在中心导流筒和中心导流筒邻区通过投加助凝剂聚丙烯酰胺(PAM),矾花进一步碰撞并增大,在沉淀池中进行泥水分离,出水流至下一个处理单元。
现有的混凝絮凝池仅采用搅拌机,搅拌效果不好,使得药剂无法充分混合、反应,药剂的有效利用率较低;且水流为多为层流,絮凝效果差。由于长时间运行,混凝絮凝池和中心导流筒池底积泥严重,严重影响系统正常运行。若沉淀池药剂量控制不当或出水管维护不及时,容易产生积泥,导致来水在混凝絮凝池出现翻池现象。若来水流至中心导流筒邻区后,偏铝酸钠和二氧化硅已经充分反应,再加上投加PAC和PAM形成了较大的矾花,在此池域内则容易造成污泥沉积。
因此,需要设计一种能够避免出现上述现象的除硅装置。
发明内容
本发明的目的在于解决现有除硅装置中药剂利用率较低、混凝絮凝池和中心导流筒池底积泥严重,影响系统正常运行的不足之处,而提供了一种高效除硅装置。
为实现上述目的,本发明所提供的技术解决方案是:
一种高效除硅装置,包括沿水流方向依次连通的混凝絮凝池、中心导流筒、中心导流筒邻区以及沉淀池,其特殊之处在于,还包括T型斜板、反冲洗单元以及溢流管;
所述T型斜板包括横板以及一端连接在横板中部的连接杆;连接杆的另一端设置在混凝絮凝池内搅拌机的搅拌轴上,并与搅拌轴之间呈45°~75°夹角,运行时可形成S型水流通道,并产生离心水流,水流处于涡旋流和湍流状态,大大提高了混凝絮凝效果;
所述反冲洗单元包括水泵、风机以及穿孔曝气管;所述穿孔曝气管设置在混凝絮凝池的池底以及中心导流筒邻区内;所述水泵和风机均通过连通管道与穿孔曝气管相连,并通过穿孔曝气管对混凝絮凝池以及中心导流筒邻区进行水洗及风洗;所述水泵及风机的施力强度,以可使水流及气流通过穿孔曝气管冲抵至靠近穿孔曝气管的T型斜板上为基准;借助反冲洗单元水流或气流的冲击力,经T型斜板改变的水流湍流状态会更加明显,延长停留时间,使药剂与高盐水之间的混合更加充分,混凝絮凝效果大幅提升;
为了防止混凝絮凝池发生翻池现象,所述混凝絮凝池的上部开设有第一通孔,所述中心导流筒邻区的侧壁上开设有第二通孔;所述混凝絮凝池内的高盐水可依次通过第一通孔、溢流管以及第二通孔溢流至中心导流筒邻区。
进一步地,混凝絮凝池内每个搅拌机的搅拌轴上均设置有多个T型斜板,且T型斜板的连接杆与搅拌轴之间呈60°夹角。
进一步地,为了便于根据选择的反冲洗方式进行切换,所述连通管道上设置有阀门。
进一步地,所述第一通孔和第二通孔均为两个;所述溢流管的两端分别与两个第一通孔连接,溢流管通过两个第二通孔后,横穿中心导流筒邻区上部,且位于中心导流筒邻区内的溢流管上开设有多个溢流孔洞;溢流孔洞大小根据水量规模和絮凝颗粒情况等因素决定。
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