[发明专利]一种硅片镀膜设备及其桨

说明书

本申请公开了一种硅片镀膜设备的桨，包括用于承载石英舟的桨板，且所述桨板为镂空的桨板；与硅片镀膜设备炉口相接触的桨叶，且所述桨叶的上表面高于所述桨板的上表面；用于连接所述桨板和所述桨叶的斜连接板。可见，本申请中的桨包括桨板、桨叶和斜连接板，且用于承载石英舟的桨板为镂空桨板，当石英舟放置在桨板上后，减少桨板与石英舟接触的面积，并且镂空气流在桨板上下可直接流通，增强硅片镀膜的均匀性，改善电池片的EL，还能减少桨板材料的用量，降低桨的制作成本。此外，本申请还提供一种具有上述优点的硅片镀膜设备。

技术领域

本申请涉及光伏电池制作技术领域，特别是涉及一种硅片镀膜设备及其桨。

背景技术

在硅片制作工艺过程中，非常重要的一步是在硅片表面镀膜，以降低光线在硅片表面的反射率，增强硅片表面的钝化效果，降低载流子的复合。

在镀膜时，机械抓手将承载有硅片的石英舟运送到炉管的桨上，桨将承载有硅片的石英舟运送进炉管进行扩散。在扩散过程中，桨本身在炉管中占据了一定位置，由于现有的桨与石英舟接触的表面是实体的，影响气流的流通，并且桨与石英舟距离过小，容易造成硅片附近气流不均匀，从而造成硅片镀膜的不均匀，并且，现有的桨用料多，制作成本高。

因此，如何解决上述技术问题应是本领技术人员重点关注的。

发明内容

本申请的目的是提供一种硅片镀膜设备及其桨，以降低桨在镀膜过程中对镀膜不均匀性的影响，并降低桨的制作成本。

为解决上述技术问题，本申请提供一种硅片镀膜设备的桨，包括：

用于承载石英舟的桨板，且所述桨板为镂空的桨板；

与硅片镀膜设备炉口相接触的桨叶，且所述桨叶的上表面高于所述桨板的上表面；

用于连接所述桨板和所述桨叶的斜连接板。

可选的，所述桨叶具有至少一个贯穿所述桨叶的厚度的第一通孔。

可选的，所述桨叶具有多个所述第一通孔，且多个所述第一通孔呈阵列排布。

可选的，所述斜连接板具有至少一个贯穿所述斜连接板的厚度的第二通孔。

可选的，所述斜连接板具有多个所述第二通孔，且多个所述第二通孔呈阵列排布。

可选的，所述第一通孔和所述第二通孔均为圆形通孔。

可选的，所述桨板的镂空区域为矩形，且镂空区域的长度等于所述桨板的长度。

可选的，所述桨为碳化硅桨。

可选的，所述桨的结构为一体式。

本申请还提供一种硅片镀膜设备，所述硅片镀膜设备包括上述任一种所述的桨。

本申请所提供的硅片镀膜设备的桨，包括用于承载石英舟的桨板，且所述桨板为镂空的桨板；与硅片镀膜设备炉口相接触的桨叶，且所述桨叶的上表面高于所述桨板的上表面；用于连接所述桨板和所述桨叶的斜连接板。可见，本申请中的桨包括桨板、桨叶和斜连接板，且用于承载石英舟的桨板为镂空桨板，当石英舟放置在桨板上后，减少桨板与石英舟接触的面积，并且镂空气流在桨板上下可直接流通，增强硅片镀膜的均匀性，改善电池片的EL，还能减少桨板材料的用量，降低桨的制作成本。此外，本申请还提供一种具有上述优点的硅片镀膜设备。

附图说明

为了更清楚的说明本申请实施例或现有技术的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单的介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本申请的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。

图1为本申请实施例所提供的一种硅片镀膜设备的桨的俯视结构示意图；