[发明专利]一种具有特殊结构的精密抛光膜及其制备方法

权利要求书

1.一种具有特殊结构的精密抛光膜，其特征在于：包括基材层和设置于所述基材层表面的涂层，所述涂层中分布有磨料，所述涂层包括间隔设置的密纹区和疏纹区，所述密纹区的磨料分布密度大于疏纹区的磨料分布密度，相邻的密纹区与疏纹区的间隔距离为20-200μm；

所述基材层的厚度为50-200μm；所述涂层的密纹区的最高处厚度a为磨料粒径的1.5-3倍；所述涂层的疏纹区的最低处厚度b为磨料粒径的1-1.5倍；

所述涂层由水性涂料制得，所述水性涂料包括如下重量份的原料：

磨料 40-70份

水性胶黏剂 15-50份

交联剂 2-10份

流平剂 0.5-3份

增稠剂 0.2-2份

润湿剂 0.2-1份

消泡剂 0.1-1份

水 5-20份。

2.根据权利要求1所述的一种具有特殊结构的精密抛光膜，其特征在于：所述密纹区的磨料分布密度与疏纹区的磨料分布密度之比为10-50:1；所述密纹区和疏纹区均呈条纹状。

3.根据权利要求1所述的一种具有特殊结构的精密抛光膜，其特征在于：所述磨料为氧化铝、碳化硅、金刚石中的一种，所述水性胶黏剂为酚醛树脂、水性环氧树脂、脲醛树脂、水性丙烯酸树脂、水性聚氨酯树脂中的至少一种。

4.根据权利要求1所述的一种具有特殊结构的精密抛光膜，其特征在于：所述交联剂为氮丙啶类交联剂、异氰酸酯类交联剂、酰胺乙烯类交联剂中的至少一种；所述流平剂为聚二甲基硅氧烷、硅油、氟改性丙烯酸酯、聚氨酯类流平剂的至少一种；所述增稠剂为羧甲基纤维素钠、气相二氧化硅、膨润土、聚乙烯醇、聚丙烯酸钠、聚乙二醇中的至少一种。

5.根据权利要求1所述的一种具有特殊结构的精密抛光膜，其特征在于：所述润湿剂为磷酸酯、聚氧乙烯脂肪醇醚、聚氧乙烯烷基酚醚、脂肪酸酯硫酸盐中的至少一种；所述消泡剂为乳化硅油、高碳醇脂肪酸酯复合物、聚氧乙烯聚氧丙烯季戊四醇醚、聚氧乙烯聚氧丙醇胺醚、聚氧丙烯甘油醚、聚氧丙烯聚氧乙烯甘油醚、聚二甲基硅氧烷中的至少一种。

6.根据权利要求1所述的一种具有特殊结构的精密抛光膜，其特征在于：所述水性涂料由如下步骤制得：

A、按照重量份计，将磨料、水性胶黏剂和水混合，搅拌，并加热至55-65℃，制得混合料；

B、将步骤A制得的混合料在转速为1500-4000rpm的条件下乳化分散25-35min，然后加入其余物料，继续分散10-20min，制得水性涂料。

7.一种如权利要求3-6任一项所述具有特殊结构的精密抛光膜的制备方法，其特征在于：包括如下步骤：

（1）将水性涂料加入至微凹辊涂布设备的料槽中，微凹辊和料槽的温度均控制在26-30℃；

（2）将取一基材层，通过微凹辊将料槽中的水性涂料涂覆于基材层的表面，烘干，制得具有特殊结构的精密抛光膜。

8.根据权利要求7所述的一种具有特殊结构的精密抛光膜的制备方法，其特征在于：所述步骤（1）中，所述微凹辊的直径为50-120mm，微凹辊的凹纹面积占比为50-80%，微凹辊的凹纹纹路为螺旋纹、网格纹、波浪纹、点凹纹或龟背纹。

9.根据权利要求7所述的一种具有特殊结构的精密抛光膜的制备方法，其特征在于：所述步骤（2）中，涂覆过程中，微凹辊的转速为40-360rpm，涂覆量≤150g/cm²，涂布设备的机速为10-30m/min，烘干分别经过四个烘干区，第一烘干区的温度为75-85℃，第二烘干区的温度为100-110℃，第三烘干区为125-135℃，第四烘干区为105-115℃，每个烘干区的烘干时间为20-35min。