[发明专利]用于将薄膜的转印层施加到基质上的方法和施加设备

权利要求书

1.用于将薄膜的转印层施加到基质上的方法，所述方法具有下述步骤：

a)借助于传送设备将薄膜输送到基质上；

b)将热塑性调色剂施加到基质的至少一个部分区域上和/或施加到所述薄膜的转印层的至少一个部分区域上；

c)借助于压制设备将所述转印层施加到所述基质上；

d)将挤压压力和热量作用到所述转印层和/或所述基质上；

e)将所述薄膜的载体层剥离，其中，所述转印层的至少一个第一部分区域保留在所述基质的施加区域上，并且所述转印层的至少一个第二部分区域保留在所述载体层上；

f)将所述载体层连同所述转印层的保留的所述第二部分区域卷绕或再绕；

g)通过至少一次重复步骤a)至f)将保留在所述载体层上的转印层的至少一个另外的部分区域施加到所述基质上，

其中，借助于所述传送设备将薄膜的伸长设定为1‰至6‰，并且

为了设定在薄膜和基质之间限定的相对位置，借助于所述传送设备基于至少一个位置信息改变薄膜的伸长。

2.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，

所述方法包括下述附加步骤：

a)借助于喷墨印刷头将可自由基固化的粘合剂施加到转印层的至少一个部分区域上；

b)通过UV辐照将所述粘合剂预固化；

c)将所述转印层的设有粘合剂的所述至少一个部分区域施加到所述基质上；

d)通过UV辐照使所述粘合剂固化；

e)将所述薄膜的载体层从转印层的所述至少一个部分区域剥离。

3.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，

借助于至少一个第一传感器检测在所述薄膜和/或用于所述薄膜的传送设备上的定位特征，并且产生关于所述薄膜的至少一个第一位置信息。

4.根据权利要求2所述的方法，其特征在于，

借助于至少一个第一传感器检测在所述薄膜和/或用于所述薄膜的传送设备上的定位特征，并且产生关于所述薄膜的至少一个第一位置信息。

5.根据权利要求4所述的方法，其特征在于，

所述第一位置信息包括保留在所述载体层上的转印层的位置和/或延伸。

6.根据权利要求5所述的方法，其特征在于，

借助于至少一个第二传感器检测在所述基质和/或用于所述基质的传送设备上的定位特征，并且产生关于所述基质的至少一个第二位置信息。

7.根据权利要求6所述的方法，其特征在于，

在所述基质上的定位特征和/或在所述薄膜上的定位特征是或者包括：在制造所述基质时提供的套准标记；和/或所述基质的和/或所述薄膜的设计特征；和/或所述基质的和/或所述薄膜的弧形棱边。

8.根据权利要求6所述的方法，其特征在于，

借助于至少一个第三传感器在所述喷墨印刷头的区域中检测所述薄膜上的和/或用于所述薄膜的传送设备上的定位特征，并且产生关于所述薄膜的至少一个第三位置信息。

9.根据权利要求8所述的方法，其特征在于，

基于预先传输给用于所述基质的传送设备的和/或用于所述薄膜的传送设备的和/或所述喷墨印刷头的控制指令来产生和/或校正和/或验证至少一个所述位置信息。

10.根据权利要求8所述的方法，其特征在于，

根据所述位置信息中的至少一个位置信息将所述至少一个部分区域和/或所述至少一个另外的部分区域引入相对于所述喷墨印刷头和/或所述基质的施加区域的限定的相对位置中。

11.根据权利要求10所述的方法，其特征在于，

用于所述薄膜的传送设备根据所述至少一个第二位置信息来控制或调节。