[发明专利]一种将防伪底纹图案与空频复用超表面图像复用的方法有效

专利信息
申请号: 201911280566.3 申请日: 2019-12-13
公开(公告)号: CN110967843B 公开(公告)日: 2021-04-20
发明(设计)人: 郑国兴;崔圆;李子乐;单欣;李仲阳 申请(专利权)人: 武汉大学
主分类号: G02B27/28 分类号: G02B27/28;G02B1/00;G09F3/02
代理公司: 湖北武汉永嘉专利代理有限公司 42102 代理人: 孙方旭
地址: 430072 湖*** 国省代码: 湖北;42
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摘要:
搜索关键词: 一种 防伪 底纹 图案 空频复用超 表面 图像 方法
【权利要求书】:

1.一种将防伪底纹图案与空频复用超表面图像复用的方法,其特征在于,线偏振光入射于具有偏振片功能的超表面,在出射方向通过转动检偏器获得两条通道,分别在近场显示一幅连续灰度混合图像和一幅二值防伪底纹图案,所述的混合图像在高频域和低频域可提取出两幅不同的图像信息,所述的超表面由透明基底和刻蚀在基底上的纳米砖阵列构成,透明基底可划分为多个纳米单元结构的工作面且其边长为C,每个纳米单元结构均由一个正方形的工作面和刻蚀于该工作面上的一个纳米砖构成,以纳米单元结构工作面的直角边为X轴和Y轴建立坐标系,纳米砖长边为长轴、短边为短轴,纳米砖的长轴与X轴夹角θ为纳米砖的转向角,纳米单元阵列中每个纳米单元结构都等效于一个理想偏振片,当一束线偏振光通过纳米单元结构和检偏器时,其出射光的琼斯矩阵可表示为:

结合马吕斯定理,出射光的光强可表示为:

其中,I0为入射线偏振光的强度,θ为所述纳米砖的转向角,α2为检偏器的检偏方向,α1为入射线偏振光的偏振方向,当入射线偏振光的偏振方向一定,可通过改变θ的大小来实现任意的灰度调制,并且可通过旋转检偏器改变检偏器的检偏方向来获得不同通道的信息。

2.根据权利要求1所述的将防伪底纹图案与空频复用超表面图像复用的方法,其特征在于,超表面采用银-二氧化硅的材料结构,顶层的银用以刻蚀纳米砖阵列,底层二氧化硅作为透明基底。

3.根据权利要求1所述的将防伪底纹图案与空频复用超表面图像复用的方法,其特征在于,所述的连续灰度混合图案,分别由两幅不同的图像提取其高频信息和低频信息并将这两个空间频域的分量叠加而产生,利用特定截止频率的高通滤波器和低通滤波器,从所述的混合图像中重新获得高频分量或低频分量所对应的图像。

4.根据权利要求1所述的将防伪底纹图案与空频复用超表面图像复用的方法,其特征在于,当线偏振光入射所述的超表面时,其光强和偏振方向均被调制后作为反射光出射,通过对纳米砖阵列的转向角分布进行设计,可以使所述的具有高分辨率的连续灰度混合图像在近场显示。

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