[发明专利]二维互穿形成的三维镉配位聚合物及其制法与应用有效

专利信息
申请号: 201911285614.8 申请日: 2019-12-13
公开(公告)号: CN111019150B 公开(公告)日: 2021-10-26
发明(设计)人: 黄坤林;吴越;陈新;夏刚 申请(专利权)人: 重庆师范大学
主分类号: C08G83/00 分类号: C08G83/00;C09K11/06;G01N21/64
代理公司: 重庆市前沿专利事务所(普通合伙) 50211 代理人: 郭丽
地址: 401331 重*** 国省代码: 重庆;50
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摘要:
搜索关键词: 二维 形成 三维 配位聚合 及其 制法 应用
【权利要求书】:

1.一种二维互穿形成的三维镉配位聚合物,其特征在于,其化学通式为{[Cd2(etc)(pyan)1.5(H2O)3](H2O)2}n,属于单斜晶系,空间群为P21/n,晶胞参数所述化学通式中,组分etc4-是四元有机羧酸H4etc脱去4个质子所得,所述H4etc结构如式Ⅰ所示;组分pyan结构如式Ⅱ所示,

所述三维镉配位聚合物的晶体学独立的不对称结构中,包含2个Cd2+离子,1个etc4-和1.5个pyan组分;每个所述etc4-与4个Cd2+离子配位模式如式III所示,组分pyan与Cd2+存在两种配位模式pyan-A和pyan-B,所述pyan-A如式IV所示,所述pyan-B如式Ⅴ所示;所述Cd2+离子的配位方式分别如式Ⅵ和式Ⅶ所示;其中,式III至式Ⅶ中原子数字标记表示来源,

2.一种如权利要求1所述的二维互穿形成的三维镉配位聚合物的制备方法,其特征在于,所述二维互穿形成的三维镉配位聚合物以H4etc、pyan、Cd(NO3)2·4H2O和HBF4作为原料,以乙腈和水的混合溶液作为溶剂,采用溶剂热合成法制备。

3.根据权利要求2所述的二维互穿形成的三维镉配位聚合物的制备方法,其特征在于,所述制备方法具体包括如下步骤:

(1)将上述原料和溶剂混合形成反应体系,置于密闭容器中;所述原料H4etc、pyan、Cd(NO3)2·4H2O和HBF4的物质的量比为1:1:2:2.5~8;所述溶剂乙腈和水的体积比3:7;

(2)将反应体系置于室温下搅拌0.5h,然后将反应温度升温至140~160℃,反应4-6天,之后自然冷却、过滤、干燥,得到块状晶体。

4.如权利要求3所述的二维互穿形成的三维镉配位聚合物的制备方法,其特征在于,步骤(1)中所述H4etc:pyan:Cd(NO3)2·4H2O:HBF4的物质的量比为1:1:2:5。

5.如权利要求3所述的二维互穿形成的三维镉配位聚合物的制备方法,其特征在于,反应体系中H4etc或pyan的初始物质的量浓度为5mmol/L。

6.如权利要求3所述的二维互穿形成的三维镉配位聚合物的制备方法,其特征在于,步骤(2)中反应温度为140℃,所述干燥是指晶体用蒸馏水洗涤后,室温下在空气中自然干燥。

7.该二维互穿形成的三维镉配位聚合物的应用,其特征在于,将采用权利要求2~6任一所述方法制得的二维互穿形成的三维镉配位聚合物在NO2-和CO32-中的检测与鉴别及在制备光敏复合材料与器件中的应用。

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