[发明专利]用于光学元件表面颗粒污染物的处理系统

权利要求书

1.一种用于光学元件表面颗粒污染物的处理系统，其特征在于，包括：

底板，其上通过支撑柱放置有光学元件；

风刀及离子棒单元，其通过支撑单元连接在底板上，且所述风刀及离子棒单元位于光学元件的一端，并使风刀及离子棒单元的出风口正对光学元件的上表面；

静电吸附电极，其包括平行设置的正电极棒和负电极棒，所述正电极棒和负电极棒分别通过电极支撑架连接在底板上，且正电极棒位于光学元件的上方，负电极棒位于光学元件的的下方。

2.如权利要求1所述的用于光学元件表面颗粒污染物的处理系统，其特征在于，所述光学元件的边缘通过四根支撑柱进行支撑连接；且所述光学元件与四根支撑柱的顶部的连接方式为：所述支撑柱的顶部连接有限位板，所述限位板上设置有与光学元件的边缘相匹配的限位部；盖板，其位于光学元件的边缘的上方，且盖板与限位板可拆卸连接。

3.如权利要求2所述的用于光学元件表面颗粒污染物的处理系统，其特征在于，所述盖板与限位板的可拆卸连接方式为螺栓连接。

4.如权利要求2所述的用于光学元件表面颗粒污染物的处理系统，其特征在于，所述光学元件为长方形、正方形、圆形、三角线、梯形光学元件中的任意一种。

5.如权利要求1所述的用于光学元件表面颗粒污染物的处理系统，其特征在于，所述风刀及离子棒单元包括：

风刀，其通过连接板连接在支撑单元上；且所述风刀的出风口正对光学元件的上表面；

离子棒，其通过离子棒支撑架设置在风刀与光学元件之间，且所述离子棒正对风刀的出风口；所述离子棒支撑架的一端连接在风刀的外壳上，另一端上连接离子棒；

压缩气瓶，其通过气体管线与风刀连接。

6.如权利要求5所述的用于光学元件表面颗粒污染物的处理系统，其特征在于，所述支撑单元为三自由度调节机构。

7.如权利要求6所述的用于光学元件表面颗粒污染物的处理系统，其特征在于，所述三自由度调节机构为从下往上依次连接的直线滑台Ⅰ、升降滑台Ⅱ和摆动滑台；所述连接板的一面连接在摆动滑台的滑块上，另一面连接风刀的外壳。

8.如权利要求1所述的用于光学元件表面颗粒污染物的处理系统，其特征在于，所述正电极棒的电极支撑架为二自由度调节机构；所述二自由度调节机构为从下往上依次连接的直线滑台Ⅱ和升降滑台Ⅱ。

9.如权利要求1所述的用于光学元件表面颗粒污染物的处理系统，其特征在于，所述静电吸附电极及其连接在底板上的方式替换为：

静电吸附电极，其包括平行设置的正电极棒和负电极棒，所述正电极棒和负电极棒通过滑行单元连接在底板上，且通过滑行单元使正电极棒在光学元件的上方来回滑动，使负电极棒在光学元件的下方来回滑动。

10.如权利要求9所述的用于光学元件表面颗粒污染物的处理系统，其特征在于，所述滑行单元包括：

滑轨基座，其连接在底板上，并位于光学元件的一侧；所述滑轨基座上连接有滑轨；所述滑轨上连接有滑轨滑块；

丝轨基座，其连接在底板上，并位于光学元件的另一侧；所述丝轨基座上可转动连接有丝杆；所述丝杆上连接有丝杆滑块；所述丝杆的前端连接有用于控制丝杆转动并带动丝杆滑块移动的减速器和电动控制器；

其中，所述滑轨滑块上连接有竖直的电极支撑座Ⅰ；所述丝杆滑块上连接有竖直的电极支撑座Ⅱ；所述正电极棒和负电极棒的一端均与电极支撑座Ⅰ垂直连接；所述正电极棒和负电极棒的另一端均与电极支撑座Ⅱ垂直连接。