[发明专利]遮光层介电常数测量方法及介电常数检测面板

权利要求书

1.一种遮光层介电常数测量方法，其特征在于，包括：

在玻璃基板上形成第一金属层；

在所述第一金属层上形成遮光层，其中，所述遮光层在所述玻璃基板上的投影与所述第一金属层在玻璃基板上的投影部分重叠；

在所述遮光层上形成第二金属层；

获取所述第一金属层与所述第二金属层之间的电容值；

根据所述电容值获取所述遮光层的介电常数。

2.根据权利要求1所述的遮光层介电常数测量方法，其特征在于，所述在所述第一金属层上形成遮光层之前还包括：

在所述第一金属层上粘贴有胶带层，其中，所述胶带层在所述玻璃基板上的投影与所述第一金属层在玻璃基板上的投影部分重叠；

所述在所述第一金属层上形成遮光层包括：

在所述第一金属层和所述胶带层上形成所述遮光层。

3.根据权利要求2所述的遮光层介电常数测量方法，其特征在于，所述获取所述第一金属层与所述第二金属层之间的电容值之前还包括：

去除所述胶带层以及位于其上的所述遮光层的部分。

4.根据权利要求1所述的遮光层介电常数测量方法，其特征在于，所述根据所述电容值获取所述遮光层的介电常数之后还包括：

检测所述介电常数与预设介电常数是否匹配；

当所述介电常数与所述预设介电常数匹配时，向监控系统发送第一信号。

5.根据权利要求4所述的遮光层介电常数测量方法，其特征在于，所述检测所述介电常数与预设介电常数是否匹配包括：

检测所述介电常数是否小于或等于所述预设介电常数；

所述当所述介电常数与所述预设介电常数匹配时，向监控系统发送第一信号包括：

当所述介电常数小于或等于所述预设介电常数时，向监控系统发送第一信号。

6.根据权利要求5所述的遮光层介电常数测量方法，其特征在于，所述检测所述介电常数是否小于或等于所述预设介电常数之后还包括：

当所述介电常数大于所述预设介电常数时，向监控系统发送第二信号。

7.根据权利要求4所述的遮光层介电常数测量方法，其特征在于，所述预设介电常数为10～20F/m。

8.根据权利要求7所述的遮光层介电常数测量方法，其特征在于，所述预设介电常数为12F/m。

9.根据权利要求1所述的遮光层介电常数测量方法，其特征在于，所述获取第一金属层的表面与第二金属层的表面之间的电容值包括：

获取所述第一金属层的表面的第一电压；

获取所述第二金属层的表面的第二电压；

根据所述第一电压和所述第二电压获取所述电容值。

10.一种介电常数检测面板，其特征在于，包括：玻璃基板、第一金属层、第二金属层以及遮光层，所述第一金属层设置于所述玻璃基板上，所述遮光层设置于所述第一金属层背离所述玻璃基板的一面，所述第二金属层设置于所述遮光层背离所述第一金属层的一面，所述遮光层在所述玻璃基板上的投影与所述第一金属层在所述玻璃基板上的投影部分重叠。