[发明专利]一种光学膜及制作方法

说明书

本发明实施例提供了一种光学膜及制作方法，该光学膜包括：第一基板和第二基板，所述第一基板的面向所述第二基板的一侧表面为不光滑表面，所述第二基板的面向所述第一基板的一侧表面为不光滑表面；位于所述第一基板和所述第二基板之间的量子点光学层，所述量子点光学层的组成材料包括高水氧阻隔材料和量子点颗粒。本发明实施例提出的技术方案，采用高水氧阻隔类高分子材料直接作为量子点胶层的母体，代替了传统的双层阻隔膜技术，不必采用两层高水氧阻隔率的阻隔膜来对量子点进行保护，减缓了量子点材料在显示产品中因长期使用带来的亮度衰减，降低了量子点膜厚度，减小成本。

技术领域

本发明施例涉及电子显示技术领域，尤其涉及一种光学膜及制作方法。

背景技术

量子点材料具有发射谱窄、色纯度高、色域广等优点，广泛的应用于新一代显示和照明领域中。

量子点表面具有化学性能活泼的纳米颗粒，容易受到温度，湿度的影响，造成表面氧化的现象。因此，现有的量子点光学膜主要依靠位于其上下位置的两层高水氧阻隔率的阻隔膜来实现对量子点光学膜的保护，以此降低温度、湿度对量子点的影响。

然而，现有技术中阻隔膜材料成本高，制备工艺复杂，工序较多，使得量子点器件的厚度无法进一步的削减，并且阻隔膜对可见光会有微弱的吸收，影响量子点产品的显示效果。

发明内容

本发明实施例的目的在于提出一种光学膜及制作方法，降低量子点材料长期使用时亮度衰减率，减小成膜的厚度。

为达此目的，本发明实施例提供了一种光学膜，该光学膜包括：第一基板和第二基板，所述第一基板的面向所述第二基板的一侧表面为不光滑表面，所述第二基板的面向所述第一基板的一侧表面为不光滑表面；位于所述第一基板和所述第二基板之间的量子点光学层，所述量子点光学层的组成材料包括高水氧阻隔材料和量子点颗粒。

可选地，所述量子点光学层的组成材料还包括光扩散粉颗粒。

可选地，所述量子点颗粒的总质量分数范围为1-9％，所述光扩散粉颗粒的质量分数范围为5-10％。

可选地，所述光扩散粉颗粒和所述量子点颗粒的尺寸均为纳米级，且所述光扩散粉颗粒的尺寸大于所述量子点颗粒的尺寸。

可选地，所述量子点颗粒包括红量子点颗粒和绿量子点颗粒，其中，所述红量子点颗粒的组成材料包括红量子点材料和包裹所述红量子点材料的绝缘材料，所述绿量子点颗粒的组成材料包括绿量子点材料和包裹所述绿量子点材料的绝缘材料。

可选地，所述绝缘材料为SiO₂和/或Al₂O₃。

可选地，所述高水氧阻隔材料是聚乙烯醇-聚乙烯共聚物粉体。

基于同一发明构思，本发明实施例还提供了一种光学膜的制作方法，该光学膜的成型方法包括：

提供一第一基板和一第二基板，分别对所述第一基板和所述第二基板进行图案化处理，以使所述第一基板的一侧表面和所述第二基板的一侧表面均形成为不光滑表面；

在所述第一基板的不光滑表面上形成量子点光学层，所述量子点光学层的组成材料包括高水氧阻隔材料和量子点颗粒；

在所述量子点光学层上形成所述第二基板，其中，所述第二基板的不光滑表面与所述量子点光学层接触设置。

可选地，所述量子点光学层的组成材料还包括光扩散粉颗粒。

可选地，所述量子点颗粒的总质量分数范围为1-9％，所述光扩散粉颗粒的质量分数范围为5-10％。

可选地，在所述第一基板靠近所述图案化处理的一侧形成量子点光学层包括：

采用一次挤出成型技术在所述第一基板上形成量子点光学膜片；