[发明专利]一种用于催化析氢的涂层电极及其制备方法在审
| 申请号： | 201911299175.6 | 申请日： | 2019-12-17 |
| 公开（公告）号： | CN111041520A | 公开（公告）日： | 2020-04-21 |
| 发明（设计）人： | 陈君 | 申请（专利权）人： | 宁波涂冠镀膜科技有限公司 |
| 主分类号： | C25B11/06 | 分类号： | C25B11/06;C25B11/10;C23C14/06;C23C14/35;C23C14/58;C25B1/04 |
| 代理公司： | 苏州谨和知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 32295 | 代理人： | 叶栋 |
| 地址： | 315000 浙江省宁*** | 国省代码： | 浙江;33 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 用于 催化 涂层 电极 及其 制备 方法 | ||
1.一种用于催化析氢的涂层电极，其特征在于，所述用于催化析氢的涂层电极包括Ti基底、以及设置在所述Ti基底表面的(W,Fe)C-P涂层。
2.如权利要求1所述的用于催化析氢的涂层电极，其特征在于，所述(W,Fe)C-P涂层包括(W,Fe)C涂层和嵌入在所述(W,Fe)C涂层内的P元素。
3.如权利要求2所述的用于催化析氢的涂层电极，其特征在于，所述的(W,Fe)C涂层厚度为3um-6um。
4.一种用以制备权利要求1至3项中任一项所述的用于催化析氢的涂层电极的制备方法，其特征在于，所述制备方法如下：
S1、提供Ti基底，将所述Ti基底表面粗糙化；
S2、在所述Ti基底表面沉积(W,Fe)C涂层；
S3、在所述(W,Fe)C涂层磷化处理，获得(W,Fe)C-P涂层。
5.如权利要求4所述的用于催化析氢的涂层电极的制备方法，其特征在于，所述粗糙化为将所述Ti基底放入苦味酸中加热30min以对其表面进行刻蚀。
6.如权利要求4所述的用于催化析氢的涂层电极的制备方法，其特征在于，所述(W,Fe)C涂层由磁控溅射技术沉积制备形成。
7.如权利要求6所述的用于催化析氢的涂层电极的制备方法，其特征在于，所述磁控溅射技术使用的W靶和Fe靶，反应气体为C2H2。
8.如权利要求7所述的用于催化析氢的涂层电极的制备方法，其特征在于，在沉积所述(W,Fe)C涂层之前，所述涂层电极的制备方法还包括将Ti基底、W靶和Fe靶进行清洗和烘干的前处理。
9.如权利要求8所述的用于催化析氢的涂层电极的制备方法，其特征在于，对Ti基底进行清洗和烘干的前处理后，所述涂层电极的制备方法还包括由离子轰击清洁所述Ti基底并活化所述Ti基底上的原子。
10.如权利要求4所述的用于催化析氢的涂层电极的制备方法，其特征在于，所述磷化处理使用的磷源为亚磷酸钠。
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