[发明专利]一种用于轴瓦测量的调节式假轴及测量方法

权利要求书

1.一种用于轴瓦测量的调节式假轴，包括轴体，其特征在于：所述轴体包括公轴(1)以及由多个轴块(2.1)拼合成的轴套(2)，所述公轴(1)和轴套(2)共同设置成公轴(1)在内、轴套(2)在外的同轴结构，所述公轴(1)的外壁呈圆锥面设置，所述轴套(2)内壁与公轴(1)外壁配合相连，所述轴套(2)外壁呈圆柱面设置，所述公轴(1)轴向截面小的一端设有螺杆(3)，所述螺杆(3)上设有调节螺母(4)；所述公轴(1)轴向截面小的一端直径为T，所述公轴(1)轴向截面大的另一端直径为D，当各个轴块(2.1)紧密拼合成轴套(2)时轴套(2)内径大的一端的内径尺寸为d，且D＞d＞T；所述调节螺母(4)外径为H，所述当各个轴块(2.1)紧密拼合成轴套(2)时轴套(2)内径小的一端的内径尺寸为h，且H＞h。

2.根据权利要求1所述的用于轴瓦测量的调节式假轴，其特征在于：所述公轴(1)外壁与轴线之间的夹角α≤1°。

3.根据权利要求1或2所述的用于轴瓦测量的调节式假轴，其特征在于：所述公轴(1)轴向截面大的一端设有多棱体握把(5)。

4.根据权利要求3所述的用于轴瓦测量的调节式假轴，其特征在于：所述轴套(2)由四块大小、形状相同的轴块(2.1)组成。

5.一种用于轴瓦测量的测量方法，其特征在于：具有如下步骤：

步骤一、将多个轴块(2.1)围住公轴(1)拼合成同轴设置的公轴(1)和轴套(2)，将调节螺母(4)与螺杆(3)螺纹连接；

步骤二、将轴块(2.1)、公轴(1)、螺杆(3)与调节螺母(4)形成的假轴插入轴瓦(6)形成的轴瓦环内；

步骤三、向公轴(1)一侧旋转调节螺母(4)，使轴块(2.1)与公轴(1)发生相对位移，轴套(2)外径尺寸不断增大，直至轴套(2)外壁与轴瓦环内壁相抵靠，量取此时轴套(2)外径即可得知轴瓦环内径尺寸。

6.根据权利要求5所述的用于轴瓦测量的测量方法，其特征在于：所述步骤一之前，将尺寸在一定范围内的多个轴瓦环的内径A作为一个测量区间，制作符合规格的假轴，所述规格需要考虑到假轴的径向尺寸、轴向尺寸以及公轴(1)外壁与轴线之间的夹角α，

所述假轴的规格符合以下关系：

h+2L·tgα+2B≤A≤D+2B，

其中，

A—轴瓦环的内径，D—公轴(1)轴向截面大的一端直径，B—轴块(2.1)径向尺寸小的一端的径向尺寸，h—各个轴块(2.1)紧密拼合成轴套(2)时轴套(2)内径小的一端的内径尺寸，L—轴块(2.1)的轴向长度，α—公轴(1)外壁与轴线之间的夹角。

7.根据权利要求6所述的用于轴瓦测量的测量方法，其特征在于：所述一个测量区间内轴瓦环的最大内径与最小内径的差值为5mm。

8.根据权利要求6或7所述的用于轴瓦测量的测量方法，其特征在于：所述公轴(1)外壁与轴线之间的夹角α≤1°。

9.根据权利要求6或7所述的用于轴瓦测量的测量方法，其特征在于：所述公轴(1)轴向截面大的一端设有多棱体握把(5)。

10.根据权利要求9所述的用于轴瓦测量的测量方法，其特征在于：所述轴套(2)由四块大小、形状相同的轴块(2.1)组成。