[发明专利]计量学目标的极化测量及对应的目标设计

说明书

本申请实施例涉及一种计量学目标的极化测量及对应的目标设计。本发明提供目标、目标元件及目标设计方法，其包括将目标结构设计为具有相对于其在极化光中的背景的高于特定对比度阈值的高对比度，同时具有相对于其在非极化光中的背景的低于所述特定对比度阈值的低对比度。所述目标可具有装置特征级的细节且可与装置设计规则兼容，在结合极化照明测量时仍维持光学对比度且因此被有效用作计量学目标。同样提供设计变型及相应测量光学系统。

本申请是申请日为2014年06月26日，申请号为“201480041321.4”，而发明名称为“计量学目标的极化测量及对应的目标设计”的申请的分案申请。

相关申请案的交叉参考

本申请案主张2013年6月27日申请的第61/840,339号及2013年12月13日申请的第61/916,018号美国临时专利申请案的权益，其全文以引用的方式并入本文中。

技术领域

本发明涉及计量学的领域，且更特定地说涉及计量学目标。

背景技术

计量学目标经设计以实现参数的测量，所述参数指示晶片制作步骤的质量且量化晶片上的结构的设计与实施之间的对应性。作为特定结构的计量学目标优化针对装置类似性及光学可测量性的要求。目标与半导体制造设计规则的相符促进目标的准确制作但可减小目标的光学可测量性。

发明内容

本发明的一方面提供一种方法，其包括将目标结构设计为具有相对于其在极化光中的背景的高于特定对比度阈值的高对比度，同时具有相对于其在非极化光中的背景的低于特定对比度阈值的低对比度。

本发明的此类、额外及/或其它方面及/或优点阐述在下文详细描述中；可能可从详细描述中推断；及/或可通过本发明的实践学习。

附图说明

为了更好地了解本发明的实施例及为了展示其可如何实施，现将单纯举例来参考附图，其中全文中相同数字指示相应元件或区段。

在附图中：

图1A及1B是根据现有技术的目标元件的高级示意图。

图2是根据本发明的一些实施例的目标结构及其背景(作为计量学目标元件的部分)的高级示意图。

图3A到3C是根据本发明的一些实施例的经设计以在极化照明中具有对比度的目标的高级示意图。

图4A及4B是根据本发明的一些实施例的目标中的分段修改的高级示意图。

图4C是根据本发明的一些实施例的在极化光及非极化光中的连续及分段背景上的分段目标结构的测量的模拟结果的示意图，其说明前者的好得多的对比度。

图5A到5F是根据本发明的一些实施例的通过利用由极化光的测量而维持对比度的工艺兼容目标设计的高级示意图。

图6A到6M是根据本发明的一些实施例的光学照明及测量系统的高级示意图。

图7是根据本发明的一些实施例的说明一种方法的高级流程图。

具体实施方式

在阐述详细描述之前，阐述将在下文中使用的特定术语的定义可能有帮助。

如在本申请案中使用的术语“计量学目标”或“目标”被定义为设计或制作在晶片上用于计量学目的的结构。计量学目标的非限制性实例是成像目标，例如AIM(高级成像计量学)、BiB(框中框)、AIMid及BLOSSOM及其对应变型及替代；及散射测量目标，例如SCOL(散射测量覆盖)及其对应变型及替代。术语“目标元件”在本申请案中用于指完整目标的部分，其根据所揭示的原理设计。因此，任意目标元件可即刻用于设计完整目标；因此，目标在本申请案中相对于其目标元件设计引用且可与其互换。