[发明专利]一种用于高双折射率液晶的含二氟乙烯氧基联苯型稀释剂及其合成方法

权利要求书

1.一种用于高双折射率液晶的含二氟乙烯氧基联苯型稀释剂，其特征在于该稀释剂的结构式如下所示：

式中X₁、X₂各自独立的代表H或F，R代表C₂～C₇烷基。

2.一种权利要求1所述的含二氟乙烯氧基联苯型稀释剂的合成方法，其特征在于：

(1)以N,N-二甲基甲酰胺与蒸馏水体积比为3:1的混合液作为溶剂，在惰性气体保护下，将式i所示的(2-氟-4-乙基苯基)硼酸类化合物与式ii所示的对三氟乙氧基溴苯类化合物、碳酸钾、四丁基溴化铵、四(三苯基膦)钯在60～90℃下反应8～10小时，分离纯化，得到式iii化合物；

(2)以四氢呋喃为溶剂，在惰性气体保护下，将式iii化合物与二异丙基氨基锂在-70～-90℃下反应1～2小时，用饱和氯化铵水溶液淬灭，分离纯化，得到式iv所示含二氟乙烯氧基联苯型稀释剂。

3.根据权利要求2所述的含二氟乙烯氧基联苯型稀释剂的合成方法，其特征在于：步骤(1)中，所述(2-氟-4-乙基苯基)硼酸类化合物与对三氟乙氧基溴苯类化合物、碳酸钾、四丁基溴化铵、四(三苯基膦)钯的摩尔比为1:1.1～1.2:3～4:0.4～0.6:0.02～0.03。

4.根据权利要求2所述的含二氟乙烯氧基联苯型稀释剂的合成方法，其特征在于：步骤(2)中，所述式iii化合物与二异丙基氨基锂的摩尔比为1:8～10。