[发明专利]液晶显示基板及其形成方法、液晶显示面板及其形成方法

权利要求书

1.一种液晶显示基板的形成方法，其特征在于，包括：

提供第一基板，所述第一基板包括显示区和非显示区，所述显示区包括若干透光区和若干遮光区，且所述遮光区位于相邻透光区之间；

在部分所述非显示区上形成标记结构，且所述标记结构具有第一厚度；

形成所述标记结构之后，在所述显示区和非显示区上形成遮光材料膜，所述遮光材料膜具有第二厚度，且所述第一厚度大于第二厚度。

2.如权利要求1所述的液晶显示基板的形成方法，其特征在于，所述第一厚度与第二厚度的比例大于2。

3.如权利要求2所述的液晶显示基板的形成方法，其特征在于，所述第一厚度的范围为1微米～15微米；所述第二厚度的范围为0.5微米～2微米。

4.如权利要求1所述的液晶显示基板的形成方法，其特征在于，所述遮光材料膜的材料的光学密度的范围为大于3.5。

5.如权利要求1所述的液晶显示基板的形成方法，其特征在于，所述遮光材料膜的材料包括：黑色感光树脂材料或者金属铬。

6.如权利要求1所述的液晶显示基板的形成方法，其特征在于，还包括：在形成所述遮光材料膜之前，在所述透光区上形成滤光结构，所述滤光结构包括若干滤光层，且每个所述透光区上具有一个滤光层；所述滤光层为红色滤光层、绿色滤光层或蓝色滤光层。

7.如权利要求6所述的液晶显示基板的形成方法，其特征在于，还包括：在形成所述滤光结构之前，在所述显示区上形成第一像素电极层；形成所述第一像素电极层之后，在所述显示区上形成第二像素电极层；在所述遮光区上形成间隔柱。

8.如权利要求6所述的液晶显示基板的形成方法，其特征在于，还包括：形成所述滤光结构之后，在所述显示区上形成第一像素电极层；形成所述第一像素电极层之后，在所述显示区上形成第二像素电极层；在所述遮光区上形成间隔柱。

9.如权利要求1所述的液晶显示基板的形成方法，其特征在于，还包括：对所述遮光材料膜进行图案化，在所述遮光区上形成遮光层；在形成所述遮光层之后，在所述透光区上形成滤光结构，所述滤光结构包括若干滤光层，且每个所述透光区上具有一个滤光层；所述滤光层为红色滤光层、绿色滤光层或蓝色滤光层。

10.如权利要求9所述的液晶显示基板的形成方法，其特征在于，还包括：在形成所述滤光结构之前，在所述显示区上形成第一像素电极层；形成所述第一像素电极层之后，在所述显示区上形成第二像素电极层；在所述遮光区上形成间隔柱。

11.如权利要求9所述的液晶显示基板的形成方法，其特征在于，还包括：形成所述滤光结构之后，在所述显示区上形成第一像素电极层；形成所述第一像素电极层之后，在所述显示区上形成第二像素电极层；在所述遮光区上形成间隔柱。

12.如权利要求7、8、10和11中任一项所述的液晶显示基板的形成方法，其特征在于，还包括：在形成所述第二像素电极层之前，在所述显示区上形成平坦保护层，所述平坦保护层位于所述第二像素电极层底部。

13.如权利要求12所述的液晶显示基板的形成方法，其特征在于，所述第一像素层还位于部分非显示区上；所述标记结构包括：位于非显示区上的第一像素层。

14.如权利要求12所述的液晶显示基板的形成方法，其特征在于，所述第二像素层还位于部分非显示区上；所述标记结构包括：位于非显示区上的第二像素层。

15.如权利要求12所述的液晶显示基板的形成方法，其特征在于，所述滤光结构还位于部分非显示区上；所述标记结构包括：位于非显示区上的滤光结构；所述非显示区上的滤光结构的厚度小于或者等于显示区上的滤光结构的厚度。