[发明专利]一种真空灭弧室真空度测量装置有效
申请号: | 201911302585.1 | 申请日: | 2019-12-17 |
公开(公告)号: | CN112992600B | 公开(公告)日: | 2023-02-17 |
发明(设计)人: | 李小钊;薛从军;刘世柏;赵芳帅;王小焕;齐大翠;亓春伟;李锟;张杨;白丽娜;王茜;王宇浩;唐朝端;苏文豪 | 申请(专利权)人: | 天津平高智能电气有限公司;平高集团有限公司;国家电网有限公司 |
主分类号: | H01H33/668 | 分类号: | H01H33/668 |
代理公司: | 郑州睿信知识产权代理有限公司 41119 | 代理人: | 贾东东 |
地址: | 300304 天津市东丽区华*** | 国省代码: | 天津;12 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 真空 灭弧室 测量 装置 | ||
本发明涉及一种真空灭弧室真空度测量装置,真空灭弧室真空度测量装置包括机架、触头电极和采集电极结构,机架上设有灭弧室定位座和线包固定座,灭弧室定位座用于支撑真空灭弧室;线包固定座上设有用于套装在真空灭弧室外的电磁线包;灭弧室定位座和线包固定座上下相对运动,以使电磁线包套在真空灭弧室的外侧;采集电极结构沿电磁线包的径向活动装配在电磁线包上,以在真空灭弧室套设在电磁线包外部时,使采集电极结构与真空灭弧室的金属环在电磁线包的径向上位置对应,采集电极结构沿电磁线包径向向内活动以与金属环抵接,实现采集电极结构与屏蔽罩导电连接。上述技术方案测量真空灭弧室真空度时,操作简便、测量效率高。
技术领域
本发明涉及一种真空灭弧室真空度测量装置。
背景技术
真空灭弧室是真空断路器的核心部件,以真空为绝缘和熄弧介质。现有真空灭弧室的结构如授权公告号为CN209561279U的中国实用新型专利所示,其主要包括陶瓷材料的绝缘外壳、设置在绝缘外壳内的屏蔽罩、设置在屏蔽罩内的动触头和静触头以及分别与动触头导电连接的动导电杆、与静触头导电连接的静导电杆。绝缘外壳通常包括两段陶瓷外壳,两陶瓷外壳相向一端连接有中锁环,中锁环为金属环,金属环与屏蔽罩固定且导电连接。陶瓷外壳的数量根据真空灭弧室的电压等级决定,真空灭弧室的电压等级越高,陶瓷外壳的数量越多。相邻两段陶瓷外壳与和屏蔽罩对应连接的金属环通过焊料在高温环境下焊接固定在一起,从而实现将屏蔽罩固定在绝缘外壳上,金属环也将相邻两个陶瓷外壳之间的缝隙与真空灭弧室的内腔隔绝以防止外界大气与真空灭弧室内连通。由于金属环的尺寸较小,所以当金属环与相邻两陶瓷外壳连接在一起时,金属环与相邻两陶瓷外壳之间形成环槽。为了实现电流的分断和灭弧,真空灭弧室内的压强一般不高于0.01Pa,因此,真空度是决定真空灭弧室开断性能的主要因素之一,真空度的降低将直接影响真空断路器的开断能力,严重时将导致其开断完全失效,在实际应用领域迫切需要测量和记录真空灭弧室的真空度。
现有技术中测量真空灭弧室真空度有两种方法:第一种方法是将被测真空灭弧室的动、静触头拉开设定距离,然后将被测真空灭弧室整体放在电磁线包中,并将被测真空灭弧室的动端和静端分别连接到冷阴极电离真空计和高压电源上。第二种方法是将被测真空灭弧室的动、静触头闭合,将被测真空灭弧室的动端(或静端)和屏蔽罩外露部分分别连接到冷阴极电离真空计和高压电源上。上述两种方法均采用磁控放电的方法对真空灭弧室的真空度进行检测。
采用上述第二种方法对真空灭弧室的真空度进行检测时,通常将导线绕在真空灭弧室的环槽中,使其与金属环接触,然后调整真空灭弧室与电磁线包的相对位置以使两者处于合适测量位置,导线的另一端从电磁线包的内孔引出并连接对应的采样电路,同时将真空灭弧室的动端或静端与对应的高压电源连接,通电即可进行后续的测量。采用上述测量方式,每次对真空灭弧室进行测量时,均需要将导线绕在真空灭弧室的环槽中使其与金属环接触,并且测量完成后,还要将导线取下,操作较繁琐,测量效率低下。
发明内容
本发明的目的在于提供一种真空灭弧室真空度测量装置,以解决现有技术中的灭弧室真空度测量装置测量繁琐、测量效率较低的技术问题。
本发明的真空灭弧室真空度测量装置的技术方案是:
真空灭弧室真空度测量装置,用于测量动、静触头闭合的真空灭弧室的真空度,包括:
机架,机架上设有灭弧室定位座和线包固定座;
所述灭弧室定位座,用于支撑放置真空灭弧室;
所述线包固定座上设有电磁线包,该电磁线包用于套装在所述真空灭弧室的外部;
触头电极,用于与所述真空灭弧室的触头导电连接;
采集电极结构,用于顶在真空灭弧室的金属环上以与真空灭弧室的屏蔽罩导电连接;
灭弧室定位座和线包固定座上下相对运动,以使电磁线包套在真空灭弧室的外部;
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