[发明专利]管道清洁装置及管道清洁方法

说明书

本发明涉及一种管道清洁装置及管道清洁方法，本发明中，管道清洁装置，包括：目标管道，以及与目标管道相连接的至少一条进气管道；目标管道的一端与反应腔室相连接；进气管道用于向目标管道输送清洁气体以清洁目标管道；目标管道内设置有挡流装置，挡流装置的挡流面面对进气管道的出气口。通过与目标管道相连的进气管道向目标管道通入清洁气体，并通过挡流装置扰动气流使清洁气体充分地接触目标管道管壁，能够对目标管道进行彻底地清洁，避免目标管道中的残余物污染反应腔室中的样品。

技术领域

本发明涉及半导体技术领域，特别涉及一种管道清洁装置及管道清洁方法。

背景技术

化学气相沉积法是沉积薄膜的主要方法之一。采用目前的化学气相沉积设备沉积薄膜过程中，通常会通过前级管道和真空泵把残余反应物抽走，避免残余反应物造成产品缺陷，如避免残余反应物掉落在晶圆上造成产品污染。

然而本发明的发明人发现，随着工艺次数的积累，前级管道里面的残余反应物也会越积越多，影响到反应腔室内产品的缺陷指标，常常在产品靠近抽气端位置形成产品污染缺陷。现亟需提供一种管道清洁装置，能够对管道进行充分地清洁。

发明内容

本发明实施例的目的在于提供一种管道清洁装置及管道清洁方法，能够对目标管道进行充分地清洁，避免目标管道中的残余物污染反应腔室中的样品。

为解决上述技术问题，本发明的实施例提供了一种管道清洁装置，包括：目标管道，以及与目标管道相连接的至少一条进气管道；目标管道的一端与反应腔室相连接；进气管道用于向目标管道输送清洁气体以清洁目标管道；目标管道内设置有挡流装置，挡流装置的挡流面面对进气管道的出气口。

另外，挡流装置可伸缩地设置在目标管道的管壁上，适于通过目标管道的管壁伸入目标管道或从目标管道抽出。在对目标管道进行清洁时挡流装置伸出，改变清洁气体流动方向以使清洁气体与目标管道的管壁充分接触；在反应腔室进行工艺或清洁反应腔室时，挡流装置可以从目标管道抽出，避免影响目标管道的气流。

另外，还包括第一控制器，用于控制挡流装置通过目标管道的管壁伸入目标管道或从目标管道抽出。能够实现挡流装置的伸缩自动化。

另外，挡流装置上设有旋转轴，旋转轴与挡流面平行；挡流装置适于围绕旋转轴转动。挡流装置转动对气流的影响更大，能够使清洁气体与目标管道的管壁接触更加充分，清洁效果更佳。

另外，还包括第二控制器，用于控制挡流装置围绕旋转轴转动。能够实现挡流装置转动自动化。

另外，目标管道包括主管道、第一子管道和第二子管道；第一子管道的一端与第一反应腔室相连接，第二子管道的一端与第二反应腔室相连接；第一子管道和第二子管道的另一端交汇至主管道的一端；进气管道有多条，第一子管道与第二子管道分别与至少一条进气管道相连。适用于多个反应腔室的前级管道清洁，本方法应用场景广泛。

另外，进气管道的进气口与清洁气体制备装置相连接，清洁气体制备装置用于向进气管道输送清洁气体。

另外，进气管道上设置有质量流量控制器。能够控制清洁气体的流量，从而控制目标管道内清洁气体的浓度，以达到最大的清洁效率。

另外，清洁气体制备装置用于制备等离子态的清洁气体。采用等离子体清洁目标管道，能量更大，清洁更彻底。

本发明的实施例还提供了一种管道清洁方法，应用于上述管道清洁装置，包括：通过进气管道向目标管道通入清洁气体对目标管道进行清洁。

另外，在通过进气管道向目标管道通入清洁气体对目标管道进行清洁之前，还包括：控制挡流装置从目标管道的管壁伸入目标管道。在对目标管道进行清洁时挡流装置能够自动伸出，改变清洁气体流动方向以使清洁气体与目标管道的管壁充分接触；在反应腔室进行工艺或清洁反应腔室时，挡流装置可以自动从目标管道抽出，避免影响目标管道的气流。